[发明专利]一种双断口快速真空灭弧室

权利要求书

1.一种双断口快速真空灭弧室，其特征在于，包括上壳体（2）、下壳体（7）、进线导杆（1）、出线静触头座（6）和导向装置，所述出线静触头座（6）固定安装于上壳体（2）与下壳体（7）之间，其内侧固定连接有出线静触头基体（61），所述出线静触头基体（61）上开设有出线凹槽（62）；所述进线导杆（1）贯穿所述上壳体（2），且与上壳体（2）固定连接，所述进线导杆（1）的内端连接有进线静触头座（4）；所述进线静触头座（4）与出线静触头基体（61）间隔设置，且进线静触头座（4）上开设有进线凹槽（41）；所述导向装置滑动安装在下壳体（7）上，且靠近所述进线导杆（1）的一端设有与所述进线凹槽（41）和出线凹槽（62）契合的辅助触头（8），所述导向装置带动辅助触头（8）移动，对出线静触头基体（61）与进线静触头座（4）连通或断开；所述出线静触头座（6）呈环形结构，所述静触头基体（61）至少设置为两个，且间隔均匀的分布于所述出线静触头座（6）的环形内壁上。

2.根据权利要求1所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述进线凹槽（41）和出线凹槽（62）均呈V型的圆周槽，且两者在同一平面的圆周上；所述辅助触头（8）呈与所述圆周槽契合的环形结构。

3.根据权利要求2所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述圆周槽的开口为直角形状，所述辅助触头（8）呈与所述圆周槽契合的直角折弯板状结构。

4.根据权利要求1所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述进线静触头座（4）通过定位销（3）与所述上壳体（2）固定连接。

5.根据权利要求1所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述进线凹槽（41）和出线凹槽（62）表面均覆有触头层（5）。

6.根据权利要求1-5任一项所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述导向装置包括依次固定连接的辅助触头基体（9）、辅助托架（10）和动导杆（13），所述辅助托架（10）为陶瓷绝缘材质，所述辅助触头（8）覆于所述辅助触头基体（9）表面，所述动导杆（13）贯穿所述下壳体（7），并通过下壳体（7）导向滑动。

7.根据权利要求6所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述下壳体（7）上固定安装有导向套（12），所述动导杆（13）滑动贯穿所述导向套（12）。

8.根据权利要求7所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述导向套（12）内侧设有沿所述动导杆（13）轴向方向的导向条，所述动导杆（13）上设有与所述导向条匹配的滑槽。

9.根据权利要求6所述的双断口快速真空灭弧室，其特征在于，所述动导杆（13）上套设有波纹管（11），所述波纹管（11）一端与下壳体（7）固定连接，另一端与动导杆（13）靠近辅助托架（10）的一端固定连接。