[发明专利]偏转电极组件、X射线源和X射线成像系统有效

专利信息
申请号: 202010772301.1 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN114068267B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 陈志强;唐华平;金鑫 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司;新鸿电子有限公司
主分类号: H01J35/04 分类号: H01J35/04;H01J35/14;H01J35/30
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 白少俊
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏转 电极 组件 射线 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种X射线源,包括:

多个阴极单元,用于从不同位置产生电子束流;

阳极,用于从不同位置接收电子束流;和

偏转电极组件,其包括第一电极板和第二电极板并且布置在所述多个阴极单元和所述阳极之间,

其中,所述第一电极板包括第一连接部和多个第一齿部,所述多个第一齿部彼此间隔地设置在所述第一连接部上,每个第一齿部从所述第一连接部延伸以使得所述第一电极板形成为梳形,

所述第二电极板包括第二连接部和多个第二齿部,所述多个第二齿部彼此间隔地设置在所述第二连接部上,每个第二齿部从所述第二连接部延伸以使得所述第二电极板形成为梳形,并且

所述多个第一齿部和所述多个第二齿部至少部分地交错排列以形成所述多个电子束流通道,每个电子束流通道位于相邻的第一齿部和第二齿部之间,

其中,每个阴极单元布置成对准所述偏转电极组件的一个电子束流通道,以使得所述多个阴极单元产生的电子束流能够分别穿过相应的电子束流通道并到达所述阳极,

其中,在所述第一电极板和第二电极板上施加电位,使得所述电子束穿过所述电子束流通道时发生偏转,并且在所述阳极上施加高电压以在所述电子束流通道的出口侧产生聚焦电场,以对所述电子束流进行聚焦。

2.根据权利要求1所述的X射线源,其中,

所述第一电极板和所述第二电极板布置成使得:每两个第一齿部之间设置有一个第二齿部,并且每两个第二齿部之间设置有一个第一齿部;

在每个所述电子束流通道处,相邻的第一齿部和第二齿部的相对侧表面彼此平行。

3.根据权利要求2所述的X射线源,其中,所述多个第一齿部在所述第一连接部上以相同间距间隔开,所述多个第二齿部在所述第二连接部上以相同间距间隔开,并且所述多个电子束流通道以相同间距分布。

4.根据权利要求3所述的X射线源,其中,所述多个第一齿部具有相同的形状,并且所述多个第二齿部具有相同的形状。

5.根据权利要求4所述的X射线源,其中,所述第一连接部包括布置有所述多个第一齿部的第一内表面,并且所述第二连接部包括布置有所述多个第二齿部的第二内表面,所述第一内表面与所述第一齿部的侧表面垂直,并且所述第二内表面与所述第二齿部的侧表面垂直。

6.根据权利要求5所述的X射线源,其中,每个电子束流通道包括电子束流输入侧和电子束流输出侧;所述第一电极板的每个第一齿部包括处于所述电子束流输出侧的上表面和处于所述电子束流输入侧的下表面,所述多个第一齿部的上表面均位于同一平面内;并且所述第二电极板的每个第二齿部包括处于所述电子束流输出侧的上表面和处于所述电子束流输入侧的下表面,所述多个第二齿部的上表面均位于同一平面内。

7.根据权利要求6所述的X射线源,其中,所述第一电极板和所述第二电极板布置成使得所述多个第一齿部的上表面与所述多个第二齿部的上表面均位于同一平面内。

8.根据权利要求7所述的X射线源,其中,所述第一电极板和所述第二电极板布置成使得所述多个第一齿部的下表面与所述多个第二齿部的下表面均位于同一平面内。

9.根据权利要求8所述的X射线源,其中,所述第一齿部和所述第二齿部均具有长方体形状。

10.根据权利要求5至9中任一项所述的X射线源,其中,所述第一齿部包括远离所述第一连接部的端表面,所述第二齿部包括远离所述第二连接部的端表面;并且所述第一电极板和所述第二电极板布置成使得:所述第一齿部的端表面与所述第二连接部的所述第二内表面之间的间距在0.1mm至10mm之间,并且所述第二齿部的端表面与所述第一连接部的所述第一内表面之间的间距在0.1mm至10mm之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;同方威视技术股份有限公司;新鸿电子有限公司,未经清华大学;同方威视技术股份有限公司;新鸿电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010772301.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top