[发明专利]一种低热膨胀系数复相陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种低热膨胀系数复相陶瓷，由包括以下质量份的原料制备得到：

所述低热膨胀系数复相陶瓷包括硅酸钙相和磷酸锆相。

2.根据权利要求1所述的低热膨胀系数复相陶瓷，其特征在于，所述原料包括：

3.根据权利要求1或2所述的低热膨胀系数复相陶瓷，其特征在于，所述低热膨胀系数复相陶瓷在10^-6/K下的热膨胀系数≤4.1。

4.根据权利要求1或2所述的低热膨胀系数复相陶瓷，其特征在于，所述磷酸锆粉的粒度≤1μm；所述硅灰石粉的粒度≥100目，所述硅灰石粉中硅酸钙的质量百分含量≥94％。

5.根据权利要求1或2所述的低热膨胀系数复相陶瓷，其特征在于，所述烧结助剂为氧化锌、氧化镁、氧化铜和氧化硼中的两种或两种以上。

6.权利要求1～5任意一项所述低热膨胀系数复相陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将磷酸锆粉、硅灰石粉和烧结助剂混合，进行干磨，得到混合粉料；

(2)将所述混合粉料与聚乙烯醇水溶液混合，进行湿磨，得到混合坯料；

(3)对所述混合坯料依次进行预压制、冷等静压成型、干燥和烧结，得到低热膨胀系数复相陶瓷。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述干磨的转速为45～60r/min，时间为10～30min，所述混合粉料的细度D₅₀≤45μm。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇水溶液的质量浓度为8～16％；

所述湿磨的转速为50～60r/min，时间为20～30min；

所述混合坯料的水分含量为15～25wt％。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述预压制的压力为10～15MPa，时间为20～30min；

所述冷等静压成型的压力为250～300MPa，时间为20～40min。

10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述烧结的温度为1100～1200℃，时间为3～5h；升温至所述烧结温度的升温速率为100～120℃/h。