[发明专利]清洗设备

权利要求书

1.一种清洗设备，用于对目标物体(100)进行清洗，其特征在于，所述清洗设备包括：

清洗池(1)，所述清洗池(1)用于容纳清洗液；

清洗装置(2)，所述清洗装置(2)包括用于承载所述目标物体(100)的承载部(21)，所述清洗装置(2)的至少部分可运动地设置以使所述承载部(21)的至少部分浸入所述清洗池(1)内的清洗液中，或使所述承载部(21)与所述清洗池(1)内的清洗液脱离接触；

第一输送装置(3)，用于将待清洗的所述目标物体(100)由上料位置(200)输送至所述承载部(21)上；

第二输送装置(4)，用于将清洗后的所述目标物体(100)由所述承载部(21)输送至下料位置(300)。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括辅助输送装置，所述辅助输送装置设置在所述承载部(21)上，所述辅助输送装置用于将位于所述承载部(21)上的所述目标物体输送至所述第二输送装置(4)上。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述第一输送装置(3)、所述第二输送装置(4)和所述辅助输送装置均为输送线结构。

4.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗装置(2)包括旋转支架(22)，所述旋转支架(22)绕第一预定轴线可转动地设置，所述承载部(21)吊设在所述旋转支架(22)上，所述承载部(21)相对于所述旋转支架(22)绕第二预定轴线可转动地设置；其中，所述第一预定轴线与所述第二预定轴线平行。

5.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述承载部(21)为多个，多个所述承载部(21)绕所述第一预定轴线均匀分布。

6.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述第一输送装置(3)和/或所述第二输送装置(4)相对于所述清洗装置(2)可运动地设置以具有与所述承载部(21)对接的对接状态和与所述承载部(21)分离的分离状态。

7.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述第一输送装置(3)和/或所述第二输送装置(4)具有插接端(41)，当所述第一输送装置(3)和/或所述第二输送装置(4)处于所述对接状态时，所述插接端(41)插入所述承载部(21)的下方，以对所述承载部(21)进行支撑。

8.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括：

两个直线驱动机构(5)，两个所述直线驱动机构(5)分别与所述第一输送装置(3)和所述第二输送装置(4)一一对应地连接，以通过两个所述直线驱动机构(5)驱动对应地驱动所述第一输送装置(3)和所述第二输送装置(4)运动；

两个直线导向机构(6)，两个所述直线导向机构(6)分别与所述第一输送装置(3)和所述第二输送装置(4)一一对应地连接，以通过两个所述直线导向机构(6)对所述第一输送装置(3)和所述第二输送装置(4)的运动进行导向。

9.根据权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，所述直线驱动机构(5)包括齿条(51)、第一电机(52)、第一齿轮(53)，所述齿条(51)安装在所述第一输送装置(3)或所述第二输送装置(4)上，所述第一齿轮(53)与所述齿条(51)啮合，所述第一齿轮(53)与所述第一电机(52)的输出轴连接，以在所述第一电机(52)带动所述第一齿轮(53)旋转时，驱动所述齿条(51)运动；

所述直线导向机构(6)包括滑轨(61)和滑块(62)，所述滑块(62)可滑动地安装在所述滑轨(61)上，所述滑块(62)与所述第一输送装置(3)或所述第二输送装置(4)连接。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括漂洗装置(400)，所述漂洗装置(400)设置在所述清洗池(1)的上方，以在所述承载部(21)与所述清洗池(1)内的清洗液脱离接触后，通过所述漂洗装置(400)对所述承载部(21)上的所述目标物体(100)进行漂洗。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括超声波发生装置，所述超声波发生装置用于向所述清洗池(1)中发射超声波；和/或，

所述清洗设备包括扰流装置(7)，所述扰流装置(7)具有喷液孔，以通过所述喷液孔向所述目标物体(100)喷射清洗液。