[发明专利]一种高透光性阻隔膜及其应用

权利要求书

1.一种高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高透光性阻隔膜的结构依次包括基材、高折射率层和低折射率层；所述高折射率层的组成及重量份数为：

高折射率粒子1～50，

纳米氧化物3～100，

含磷化合物0.5～50，

酸催化剂0.5～70；

所述低折射率层的组成及重量份数为：

含有羧基的聚合物4～200，

含羟基的水溶性聚合物1～100，

带有与羧基反应性基团的偶联剂0.01～20，

硅醇盐的水解缩合物0.3～80，

树脂交联剂0.015～20。

2.根据权利要求1所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高折射率层的折射率为1.5～2.0，厚度为0.01～2μm；所述低折射率层的折射率为1.3～1.5，厚度为0.2～10μm；所形成的高射率层和低折射率层的厚度比为1/20～10/1。

3.根据权利要求1所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高折射率层中高折射率粒子是含有键合了能水解的特性基团的化合物(L)，所述化合物(L)的通式为MX_m，其中M为Ti、Zr、Zn、Mg或Ca中的一种元素，X为甲氧基、乙氧基、异丙氧基、正丁氧基、乙酰丙酮基、羧基、硝基、F、Cl、Br或I中的一种，m为1～4的正整数。

4.根据权利要求3所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高折射率层中纳米氧化物为纳米氧化铝和纳米氧化硅中的一种或两种，粒径为10nm～200nm。

5.根据权利要求4所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高折射率层中高折射率粒子中M元素的物质的量(n₃)与纳米氧化物中金属元素的物质的量(n₂)满足0.01≤n₃/n₂≤3.5。

6.根据权利要求5所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述高折射率层中含磷化合物包括磷酸、多聚磷酸、亚磷酸、膦酸、次氮基三(亚甲基膦酸)或N,N,N,N,-乙二胺四(亚甲基膦酸)的一种或几种。

7.根据权利要求6所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述含磷化合物中磷元素的物质的量(n₁)与纳米氧化物中金属元素物质的量(n₂)和高射率粒子中的M元素的物质的量(n₃)满足0.1≤n₁/(n₂+n₃)≤2.5。

8.根据权利要求7所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述酸催化剂包括硝酸、盐酸、硫酸、硼酸、甲酸、乙酸、丁酸、三氟乙酸、柠檬酸、酒石酸、乳酸、草酸或马来酸中的一种或多种。

9.根据权利要求8所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述含有羧基的聚合物为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚(丙烯酸/甲基丙烯酸)共聚物中的一种，分子量控制在3000～1500,000范围内。

10.根据权利要求9所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述含羟基的水溶性聚合物为聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯-马来酸酐共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、多糖类、壳聚糖或纤维素中的一种，聚合度控制在500～3000，醇解度控制在80％～99.99％。

11.根据权利要求10所述的高透光性阻隔膜，其特征在于，所述带有与羧基反应性基团的偶联剂是指带有氨基、巯基、环氧基的偶联剂，选自γ-氨基丙基三甲氧基硅烷(KH540)、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)、二乙胺基甲基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷(KH792)、γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)、γ-巯丙基三乙氧基硅烷(KH580)、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷或γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷中的一种或几种。