[发明专利]一种正极性LED芯片及其制作方法在审
申请号: | 202010759320.0 | 申请日: | 2020-07-31 |
公开(公告)号: | CN111864018A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 徐洲;王洪占;杭伟;吴奇隆;蔡和勋;蔡端俊 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/12;H01L33/24;H01L33/38;H01L33/46;H01L33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐华 |
地址: | 225101*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 极性 led 芯片 及其 制作方法 | ||
本发明提供了一种正极性LED芯片及其制作方法,外延结构层的四周侧壁为倾斜侧壁,倾斜侧壁与外延结构层底面的夹角为锐角,且覆盖外延结构层四周侧壁和顶面的第一电极具有第一镂空区域,第一镂空区域暴露出外延结构层顶面的部分区域,因此,发光结构层发出的光线可以从第一镂空区域出射,并且,由于第一电极与覆盖外延结构层四周侧壁的绝缘层构成ODR层,因此,会对发光结构层发射到四周侧壁的光线进行反射,此外,外延结构层中位于其底面的DBR反射层也会对发光结构层发出的光线进行反射,从而使得发光结构层发出的光线仅从第一镂空区域出射,进而使得LED芯片的出光角度较小,能够满足精密的对射式光电开关等特殊领域的要求。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种正极性LED芯片及其制作方法。
背景技术
常规的正极性LED芯片的出光面包括芯片的正面和四个侧壁,也就是说,常规的正极性LED芯片为五面出光的芯片。但是,在精密的对射式光电开关等特殊领域,要求LED芯片的发光角度很小,且侧壁无杂散光出射,这就导致常规的正极性LED芯片无法满足其使用要求。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种正极性LED芯片及其制作方法,以减小正极性LED芯片的发光角度,使其满足精密的对射式光电开关等特殊领域的要求。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种正极性LED芯片,包括:
衬底;
位于所述衬底正面的外延结构层,所述外延结构层包括依次位于所述衬底表面的缓冲层、发光结构层和窗口层,所述外延结构层的四周侧壁为倾斜侧壁,所述倾斜侧壁与所述外延结构层底面的夹角为锐角;
覆盖所述外延结构层四周侧壁的绝缘层;
覆盖所述外延结构层四周侧壁和顶面的第一电极,所述第一电极与所述外延结构层的顶面欧姆接触,所述第一电极与所述绝缘层构成ODR层,所述第一电极具有第一镂空区域,所述第一镂空区域暴露出所述外延结构层顶面的部分区域,以使所述发光结构层发出的光线从所述第一镂空区域出射;
位于所述衬底背面的第二电极。
可选地,所述倾斜侧壁与所述外延结构层底面的夹角的范围为大于5°、小于或等于85°。
可选地,所述LED芯片具有切割沟道,所述切割沟道延伸至所述衬底,并使所述外延结构层形成倾斜侧壁;所述绝缘层完全覆盖所述切割沟道的底部及所述倾斜侧壁、部分覆盖所述外延结构层的顶面;所述外延结构层的顶面与倾斜侧壁交界处的边缘至少1微米宽度的区域完全被所述绝缘层覆盖。
可选地,所述镂空区域的形状为圆形、多边形或不连续的圆环形。
可选地,所述第一电极与所述外延结构层的顶面欧姆接触的区域为第一区域,所述第一区域与焊线电连接。
可选地,还包括位于所述第一区域的电极加厚层,所述电极加厚层位于所述第一电极和所述焊线之间,且所述电极加厚层与所述第一电极和所述焊线电连接。
一种正极性LED芯片的制作方法,包括:
在衬底正面形成外延结构层,所述外延结构层包括依次形成在所述衬底表面的缓冲层、发光结构层和窗口层;
沿预设切割沟道对所述外延结构层进行刻蚀,使不同芯片区域的外延结构层之间形成切割沟道,并使所述外延结构层的四周侧壁成为倾斜侧壁,所述倾斜侧壁与所述外延结构层底面的夹角为锐角;
在所述外延结构层的四周侧壁形成绝缘层;
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