[发明专利]一种荧光成像装置及其成像方法有效

专利信息
申请号: 202010757526.X 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111855544B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 裴万生 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01N15/14 分类号: G01N15/14
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 沈宗晶
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 荧光 成像 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种荧光成像装置,其特征在于:所述装置包括至少一激光器(101)、分光装置(103)、流动室(114)、第一探测单元及荧光成像单元;

所述激光器(101)用于发射至少一种激光;

所述分光装置(103)用于将所述激光器(101)发射的激光分散为第一照明光路和第二照明光路,所述第一照明光路和第二照明光路分别照射至所述流动室(114);

所述流动室(114)用于限制颗粒的流动,第一照明光路和第二照明光路照射经过流动室(114)的含颗粒的液流产生第一照射光斑和第二照射光斑,所述颗粒经过所述第一照射光斑产生第一光信号,所述颗粒经过第二照射光斑产生第二光信号,所述第一光信号包括第一散射光信号和第一荧光探测信号,所述第二光信号包括第二散射光信号和第二荧光探测信号;

所述第一探测单元用于分析第一照明光路的第一散射光信号,所述第一探测单元包括第一探测器(108),所述第一探测器(108)用于检测所述第一散射光信号的第一部分,以识别颗粒的特征;

所述荧光成像单元用于分析第二照明光路的第二散射光信号和第二荧光探测信号,所述荧光成像单元包括第二探测器(110),所述第二探测器(110)用于检测所述第二散射光信号和第二荧光探测信号,以进行成像分析。

2.如权利要求1所述的一种荧光成像装置,其特征在于:所述第一探测单元还包括第三探测器(111),所述第三探测器(111)用于检测所述第一散射光信号的第二部分和第一荧光探测信号,以识别颗粒的特征。

3.如权利要求2所述的一种荧光成像装置,其特征在于:还包括第一反射装置(104),所述第一反射装置(104)设置于所述分光装置(103)的一侧,所述第一反射装置(104)的角度可调,以用于调节所述第二照明光路在所述流动室(114)的位置。

4.如权利要求3所述的一种荧光成像装置,其特征在于:所述荧光成像装置还包括荧光成像光路系统,所述荧光成像光路系统用于获取颗粒图像;

所述荧光成像光路系统包括第六镜头(305)及第四探测器(306),所述第六镜头(305)用于将颗粒二次成像,所述第四探测器(306)用于对所述二次成像进行拍摄。

5.如权利要求4所述的一种荧光成像装置,其特征在于:还包括放大成像系统,所述放大成像系统用于将所述第一照射光斑与第二照射光斑之间的间隔放大,所述放大成像系统包括第四镜头(301)和第五镜头(302)。

6.如权利要求5所述的一种荧光成像装置,其特征在于:还包括第二反射装置(303)和第八镜头(309),所述第二反射装置(303)用于将第一光信号反射,所述第八镜头(309)用于将所述反射的第一光信号分别反射成用于第三探测器(111)接收的侧向散射光路和侧向荧光光路。

7.利用权利要求4~6任一项所述的荧光成像装置进行荧光成像的方法,其特征在于包括以下步骤:

第一探测器采集第一散射光信号的第一部分和/或第三探测器采集第一散射光信号的第二部分及第一荧光信号;

第一探测器处理第一散射光信号的第一部分和/或第三探测器处理第一散射光信号的第二部分及第一荧光信号,以根据处理结果识别颗粒的特征;

根据识别颗粒的特征判断是否通过荧光成像光路系统获取图像;当颗粒的特征不符合条件,荧光成像光路系统不获取图像或当颗粒的特征符合条件时,荧光成像光路系统获取图像;

获取图像后对所述图像进行保存与预处理;

对所述预处理的图像进行二次处理;

对所述二次处理的图像进行显示。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于:在获取图像之前检测颗粒从第一照射光斑到达第二照射光斑的时间间隔t,所述时间间隔t的计算公式如下:

t=y'/v

其中,v为颗粒运行速度,y'为第一照射光斑与第二照射光斑之间的间距。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010757526.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top