[发明专利]一种清洗机上的硅片放料工装在审
申请号: | 202010755564.1 | 申请日: | 2020-07-31 |
公开(公告)号: | CN111710633A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 徐俊 | 申请(专利权)人: | 杭州易正科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/673 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 曹立成 |
地址: | 310000 浙江省杭州市西*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 硅片 工装 | ||
本发明公开了一种清洗机上的硅片放料工装,包括矩形的盒体,盒体的右侧壁上成型有若干道水平的右出料槽,盒体的左侧壁上成型有与右出料槽相错位的左出料槽,盒体右侧的外壁上成型有右导向外框,右出料槽分布在右导向外框的内侧,所述盒体左侧的外壁上成型有左导向外框,左出料槽分布在左导向外框的内侧;所述左导向外框或右导向外框均插接有竖直的挡料条,挡料条的上端伸出左导向外框或右导向外框螺接有螺钉,螺钉抵靠在盒体的两侧外壁上;所盒体的上部插接有水平的挡料板。
技术领域
本发明涉及半导体清洗机的技术领域,更具体地说涉及一种清洗机上的硅片放料工装。
背景技术
硅片制作的集成电路芯片为常规的半导体产品,硅片在制作集成电路芯片之前,需要经过清洗。现有的硅片清洗先放入药液槽进行表面化学处理,再送入清洗槽内(采用纯水清洗,也称为纯水槽),将表面粘附的药液清洗干净。现有具体的清洗方式是将硅片安置在承载硅片的料框,将承载有硅片的料框浸泡到药液槽后,然后提起料框,沥水后,再将料框放入纯水槽内浸泡清洗。现有料框的两侧内壁上一般设有若干隔板,硅片可以插接在隔板之间的插槽内,避免硅片相互抵靠在影响表面的清洗;但往料框内安放硅片时,需要逐个放入,往料框内安放硅片需要耗费较长的时间。
发明内容
本发明的目的就是针对现有技术之不足,而提供了一种清洗机上的硅片放料工装,其方便硅片放入料框的插槽内,可以减少放硅片所耗费的时间。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种清洗机上的硅片放料工装,包括矩形的盒体,盒体的右侧壁上成型有若干道水平的右出料槽,盒体的左侧壁上成型有与右出料槽相错位的左出料槽,盒体右侧的外壁上成型有右导向外框,右出料槽分布在右导向外框的内侧,所述盒体左侧的外壁上成型有左导向外框,左出料槽分布在左导向外框的内侧;所述左导向外框或右导向外框均插接有竖直的挡料条,挡料条的上端伸出左导向外框或右导向外框螺接有螺钉,螺钉抵靠在盒体的两侧外壁上;所盒体的上部插接有水平的挡料板。
优选的,所述左出料槽的两侧内壁上成型若干左隔板,左隔板位于左出料槽之间;右出料槽的两侧内壁上成型若干右隔板,右隔板位于右出料槽之间。
优选的,所述盒体上左出料槽或右出料槽均呈线性均匀分布,右出料槽的宽度和长度分别等于左出料槽的宽度和长度,左出料槽的长度等于盒体前、后内壁之间的间距。
优选的,所述相邻的右出料槽之间的间距等于左出料槽的跨度,盒体最下端的右出料槽的下底面和盒体的内侧底面相齐平;所述盒体最上端的左出料槽的上底面和挡料板的下端面相齐平。
优选的,所述挡料板的一端伸出盒体成型有截面呈T型的拉手,拉手抵靠在盒体的外壁上。
优选的,所述盒体的下端面上固定有若干个把手。
优选的,所述右导向外框或左导向外框前、后两侧的棱边均成型有倒角。
本发明的有益效果在于:其方便将硅片放入料框的插槽内,可以减少放硅片所耗费的时间。
附图说明
图1为本发明立体的结构示意图;
图2为本发明另一角度的立体结构示意图;
图3为本发明俯视的结构示意图;
图4为本发明半剖的结构示意图。
图中:1、盒体;11、右出料槽;12、左出料槽;13、右导向外框;14、左导向外框;15、右隔板;16、左隔板;2、挡料条;3、螺钉;4、挡料板;41、拉手;5、把手。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造