[发明专利]功能膜结构及其制备方法、制冷膜和制冷制品

权利要求书

1.一种功能膜结构，其特征在于，包括基膜以及依次层叠设置于所述基膜上的反射层和应力缓冲层，所述应力缓冲层的材料包括金属、金属氧化物中的至少一种，所述应力缓冲层为多个柱状晶形成的膜层结构，相邻的柱状晶之间具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。

2.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述应力缓冲层的厚度为500nm-1000nm。

3.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述功能膜结构还包括设置于所述基膜和所述反射层之间的第一阻隔层，所述第一阻隔层的材料包括金属氮化物、非金属氮化物中的至少一种，所述第一阻隔层的厚度为10nm-30nm；和/或，

设置于所述反射层和所述应力缓冲层之间的第二阻隔层，所述第二阻隔层的材料包括金属氮化物，所述第二阻隔层的厚度为20nm-60nm。

4.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述反射层的材料包括银、银合金、铝、铝合金中的至少一种，所述反射层的厚度为80nm-200nm。

5.根据权利要求1所述的功能膜结构，其特征在于，所述基膜的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇-1,4-环己烷二甲醇酯、聚己内酰胺、聚己二酰己二胺、聚十二内酰胺、聚癸二酰癸二胺、聚乙烯、聚丙烯、聚-4-甲基-1-戊烯、氟乙烯丙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯塑料、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯、乙烯三氟氯乙烯共聚物中的至少一种。

6.一种如权利要求1-5任一项所述的功能膜结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基膜；

在所述基膜的表面设置反射层；以及

在所述反射层的远离所述基膜的表面形成应力缓冲层，其中所述应力缓冲层中具有孔隙，所述孔隙的孔径为80nm-100nm，所述孔隙在所述应力缓冲层中的体积百分比为30%-40%。

7.根据权利要求6所述的功能膜结构的制备方法，其特征在于，通过磁控溅射法形成所述应力缓冲层，其中，沉积角范围为60°-70°，靶基距为11cm-13cm。

8.一种制冷膜，其特征在于，包括聚合物膜和权利要求1-5任一项所述的功能膜结构，所述功能膜结构通过粘结层设置于所述聚合物膜，其中，所述功能膜结构中的所述应力缓冲层远离所述反射层的表面与所述粘结层接触。

9.一种制冷制品，其特征在于，包括基体以及设置于所述基体上的权利要求8所述的制冷膜，其中，所述基膜远离所述反射层的表面作为入光侧。