[发明专利]一种抛光带及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光带及其制备方法和应用。本发明提供的抛光带，包括基层和位于所述基层表面的工作层，所述工作层，按照重量份数计，包括以下组分：热固性树脂20～70份，磨料10～50份，填料5～30份和助剂2～10份。根据实施例的结果可知，本发明提供的抛光带对硬质材料进行抛光后，硬质材料表面的光泽度最高可达90Gu，无雾化产生。

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光带及其制备方法和应用。

背景技术

随着现代工艺的精密化和人们审美要求的提高，对材料表面的光泽度要求也越来越高。因此，研磨抛光是材料应用中的一个重要环节，而对研磨抛光的模具的要求也越来越高，例如加工一些石材、陶瓷和金属等高硬度材料。

目前，应用于高硬度硬质材料的模具研究和生产都较为成熟，市面上已有各种抛光片和抛光垫等。然而，上述抛光片和抛光垫一般用于平面的抛光，而很少应用于曲面的抛光。此外，目前曲面抛光的工艺一般集中在抛光设备的研发上，例如，专利号为CN201811254832.0的中国专利公开了一种陶瓷曲面抛光打磨设备，专利号为CN201711253423.4的中国专利公开了一种多磨盘曲面抛光机，专利号为CN201610601630.3的中国专利公开了一种曲面抛光机，而极少关注设备配套的磨具。除了自动化抛光设备和装置外，硬质材料曲面的抛光仍存在部分传统的手工打磨抛光，而这种抛光效率低下，抛光效果难以保证，批次稳定性较差。从磨具角度上来说，相对于平面抛光，曲面抛光过程中材料的受力与平面抛光有所不同，应用于曲面抛光的磨具与平面抛光磨具也有所不同，而市面上并没有专门用于曲面抛光用的磨具，也未见相关的研究开发。

在众多的抛光方法和设备中，砂带机抛光是一种常见的方法，也有被用于曲面的抛光，具有操作简单、抛光效率高的特点。专利号为CN201510815375.8的中国专利公开了一种用于复杂曲面抛光加工的摆动抛光装置。然而该专利涉及相关的磨具是砂带，其抛光效果有限，不适用于精抛光，同时部分硬质材料的硬度高于砂带磨料，砂带抛光不具备较广的应用范围。同时，抛光装置仍较为复杂，仍有极大的改进空间。

因此，在砂带机抛光的基础上，如何通过对抛光带进行设计实现高效、稳定的硬质材料的曲面抛光具有重要的价值。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抛光带及其制备方法和应用，所述抛光带具有抛光效果好、抛光效率高的特点。

为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种抛光带，包括基层和位于所述基层表面的工作层，所述工作层，按照重量份数计，包括以下组分：

优选的，所述热固性树脂包括环氧树脂、酚醛树脂、聚酰亚胺、双马来酰亚胺、聚氨酯、氨基树脂、聚脲、氰酸酯树脂和不饱和树脂中的一种或几种。

优选的，所述磨料包括金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化锆、刚玉和石英中的一种或几种；

所述磨料的粒径为100～10000目。

优选的，所述填料包括铜粉、滑石粉、碳酸钙、氢氧化铝、氢氧化镁、短切玻璃纤维、短切碳纤维、空心玻璃微珠、空心二氧化硅和石墨粉中的一种或几种；

所述填料中的铜粉、滑石粉、碳酸钙、氢氧化铝、氢氧化镁、空心玻璃微珠、空心二氧化硅和石墨粉的粒径独立地为200～10000目；

所述填料中的短切玻璃纤维和短切碳纤维的直径独立地为5～100μm；长度独立地为100～50000μm。

优选的，所述助剂包括偶联剂、增稠剂和消泡剂中的一种或几种；

所述偶联剂为硅烷偶联剂和/或钛酸酯偶联剂；

所述增稠剂为气相二氧化硅、膨润土和蒙脱土中的一种或几种；