[发明专利]脑组织分区的确定方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种脑组织分区的确定方法，其特征在于，所述方法包括：

获取头颅位置的目标三维容积图像；

将所述目标三维容积图像转换为M个目标二维横轴面图像，其中，M为大于1的正整数；

获取所述头颅位置的模板三维容积图像所对应的N个模板二维横轴面图像，其中，N为大于1的正整数；

分别确定每个所述目标二维横轴面图像各自匹配的模板二维横轴面图像，以获得每个所述目标二维横轴面图像的匹配关系；

根据与所述目标二维横轴面图像相匹配的模板二维横轴面图像中的脑组织分区，确定所述目标二维横轴面图像中的脑组织分区；

其中，所述方法还包括：

获取每个所述模板二维横轴面图像各自所对应的第一掩模面积比例系数；

确定目标三维掩模数据，所述目标三维掩模数据用于表征所述目标三维容积图像中的脑组织区域；

根据所述目标三维掩模数据，确定每个所述目标二维横轴面图像各自所对应的第二掩模面积比例系数；

所述分别确定每个所述目标二维横轴面图像各自匹配的模板二维横轴面图像，包括：

针对每个所述目标二维横轴面图像，根据该目标二维横轴面图像所对应的第二掩膜面积比例系数和部分或全部所述模板二维横轴面图像各自所对应的第一掩模面积比例系数，确定与该目标二维横轴面图像相匹配的模板二维横轴面图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标二维横轴面图像所对应的第二掩模面积比例系数通过以下公式进行计算：

其中，k∈[1，M]；a_k为第k个所述目标二维横轴面图像所对应的第二掩模面积比例系数；s_k为所述目标三维掩模数据在第k个所述目标二维横轴面图像中所对应的掩模面积；s_max为所述目标三维掩模数据在M个所述目标二维横轴面图像中分别所对应的掩模面积中的最大面积。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据该目标二维横轴面图像所对应的第二掩膜面积比例系数和部分或全部所述模板二维横轴面图像各自所对应的第一掩模面积比例系数，确定与该目标二维横轴面图像相匹配的模板二维横轴面图像，包括：

在该目标二维横轴面图像位于最小的第二掩模面积比例系数所对应的目标二维横轴面图像之上的情况下，将位于最小的第一掩膜面积比例系数所对应的模板二维横轴面图像之上的所有模板二维横轴面图像中，与该目标二维横轴面图像所对应的第二掩膜面积比例系数最接近的第一掩模面积比例系数所对应的模板二维横轴面图像确定为与该目标二维横轴面图像相匹配的模板二维横轴面图像；

在该目标二维横轴面图像位于最小的第二掩模面积比例系数所对应的目标二维横轴面图像之下的情况下，将位于最小的第一掩膜面积比例系数所对应的模板二维横轴面图像之下的所有模板二维横轴面图像中，与该目标二维横轴面图像所对应的第二掩膜面积比例系数最接近的第一掩模面积比例系数所对应的模板二维横轴面图像确定为与该目标二维横轴面图像相匹配的模板二维横轴面图像。