[发明专利]一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统

权利要求书

1.一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：包括位于手套箱(100)中的真空腔室(200)，真空腔室(200)内装有用于夹装片状基片的样品台(300)，样品台(300)台面朝下布置，样品台(300)下方分别设置有用于向基片表面溅射镀膜形成正极的溅射机构(400)，和用于向基片表面蒸发镀膜形成负极的蒸发机构(500)。

2.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述溅射机构(400)包括磁控溅射靶头(410)和射频电源(420)，磁控溅射靶头(410)设置在真空腔室(200)中，磁控溅射靶头(410)指向样品台(300)用于样品台(300)上基片溅射正极材料，射频电源(420)连接磁控溅射靶头(410)。

3.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述蒸发机构(500)包括蒸发头(510)和蒸发电源(520)，蒸发头(510)设置在真空腔室(200)内，蒸发头(510)指向样品台(300)用于向样品台(300)上基片蒸发负极材料，蒸发电源(520)连接蒸发头(510)。

4.根据权利要求3所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述蒸发头(510)内装有两套蒸发舟，分别为不锈钢蒸发舟和氧化铝蒸发舟。

5.根据权利要求2或3所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述真空腔室(200)内装有挡板调节机构，挡板调节机构包括两挡板(260)以及调控组件，两挡板(260)分别和磁控溅射靶头(410)、蒸发头(510)对应设置，调控组件调节两挡板(260)处于两种状态，其一为：一挡板(260)遮挡磁控溅射靶头(410)另一挡板不遮挡蒸发头(510)的蒸发工作状态，其二为：一挡板(260)不遮挡磁控溅射靶头(410)另一挡板遮挡蒸发头(510)的溅射工作状态。

6.根据权利要求5所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述调控组件包括转轴(250)，转轴(250)沿着铅锤方向布置，转轴(250)位于磁控溅射靶头(410)和蒸发头(510)之间，两挡板(260)固定安装在转轴(250)上端，转轴(250)下端穿过真空腔室连接调控电机(240)。

7.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述样品台(300)连接转动调控机构(320)，转动调控机构(320)用于驱使样品台(300)围绕其铅锤方向中心线转动。

8.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述样品台(300)上装有用于加热基片的加热装置(310)。

9.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述样品台(300)一侧装有用于测量正负极材料厚度的薄膜测厚仪。

10.根据权利要求1所述的一种用于制作固态薄膜电池的RF和PVD系统，其特征在于：所述真空腔室(200)为不锈钢材料制成的密闭腔室，真空腔室(200)连接真空泵(270)。