[发明专利]一种硅氧铝三元复合光学镀膜材料及其制备方法

权利要求书

1.一种硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

（S1）将氧化铝与氟化钙混合均匀，烧结后冷却待用；

（S2）将二氧化硅粉体与步骤（S1）所得产物混合均匀，然后进行制粒、压片、破碎、筛分，然后重复压片、破碎和筛分操作直至混合充分；

（S3）将（S2）所得混合物在真空条件下加热，使铝、硅、氧原子脱离原本位置发生固体置换反应，制得硅氧铝三元复合光学镀膜材料。

2.根据权利要求1所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S1）为：按重量计将氧化铝与氟化钙1:1混合均匀，在800℃条件下烧结10小时，自然冷却至室温后待用。

3.根据权利要求2所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S1）中，所述氧化铝和氟化钙的粒径均在4-10μm范围内。

4.根据权利要求1所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S2）为：按重量计将二氧化硅粉体与步骤（S1）所得产物1:9或5:5混合均匀，然后使用固体制粒机进行制粒，使用压片机压成片状，再进行破碎和筛分；重复压片、破碎和筛分操作8-10次。

5.根据权利要求4所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S2）中，所述二氧化硅粉体的粒径为2000目，固体制粒机制得的颗粒的粒径在1-1.5mm范围内，压力机的压力为5000MPa，破碎后颗粒的粒径经筛分至1-3mm范围内。

6.根据权利要求1所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S3）中的加热温度为1020℃，恒温时间为12小时。

7.根据权利要求6所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法，其特征在于：步骤（S3）为：将（S2）所得混合物置于真空高温炉中，在10-6pa的真空条件下升温到1020℃，并恒温12小时，得所述硅氧铝三元复合光学镀膜材料。

8.一种硅氧铝三元复合光学镀膜材料，其特征在于：根据权利要求1至7任一项所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料的制备方法制备得到。

9. 根据权利要求8所述的硅氧铝三元复合光学镀膜材料，其特征在于：经三次真空蒸镀制得的薄膜，其在光波长为300-800 nm范围内的透光率达90%以上，其在光波长为400-800 nm范围内的最低折射为1.32%。