[发明专利]一种光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置及应用在审
| 申请号: | 202010731394.3 | 申请日: | 2020-07-27 |
| 公开(公告)号: | CN111962143A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
| 发明(设计)人: | 贾志泰;穆文祥;陶绪堂 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
| 主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10;C30B15/36 |
| 代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 杨磊 |
| 地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光学 辅助 感应 加热 坩埚 生长 装置 应用 | ||
1.一种光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置,其特征在于,该生长装置包括:光学热源和自坩埚,
所述的自坩埚为分立铜管组合而成的容器,所述的自坩埚四周设置有射频线圈,所述的自坩埚还设置有冷却水进水口和冷却水出水口,位于自坩埚上方设置有籽晶杆。
2.根据权利要求1所述的光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置,其特征在于,所述的光学热源为卤素灯、LD光源或二氧化碳激光器;
优选的,所述的光学热源还包含聚光系统。
3.根据权利要求1所述的光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置,其特征在于,所述的自坩埚上方设置有电阻或者光学加热方式的后热器,后加热器加热的区域高度大于晶体生长长度。
4.根据权利要求1所述的光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置,其特征在于,所述的自坩埚中还设置有上称重自动等径控制系统。
5.利用权利要求1所述的光学辅助感应加热自坩埚单晶生长装置生长单晶的方法,包括步骤如下:
(1)原料的选取和处理
将纯度≥99.99%的晶体原料粉末在100-200℃下真空干燥,除去原料中吸附的水,得到胚料;
(2)籽晶的选取
根据所要生长的晶体,选用定向籽晶,切割、超声清洗、干燥后备用;
(3)晶体生长
将步骤(1)的胚料装入分立铜管组成的自坩埚中,启动光学热源,聚焦至自坩埚内原料表面,逐渐增加加热功率,将胚料熔化,形成液池;出现液池后启动射频线圈的感应加热,并关闭光学热源;调节射频线圈的加热功率,使液池在感应加热作用下逐渐扩大,通过冷却水进水口向自坩埚通入冷却水;
采用提拉法生长晶体,或者采用导模法生长晶体,或者采用定向凝固法生长晶体,或者其他现有晶体生长方法生长晶体。
6.根据权利要求5所述的生长单晶的方法,其特征在于,步骤(1)中所述的原料粉末为氧化镓粉末、氧化镥粉末、氧化铝粉末或氧化镁粉末,原料粉末的纯度为99.99%,干燥时间为1-3h。
7.根据权利要求5所述的生长单晶的方法,其特征在于,步骤(2)中籽晶为β-Ga2O3单晶、氧化镥籽晶、氧化镁籽晶或氧化铝籽晶。
8.根据权利要求5所述的生长单晶的方法,其特征在于,步骤(3)中采用提拉法生长晶体时,通过籽晶杆将籽晶下降逐渐靠近熔体,下入籽晶并收颈,当籽晶直径收细至1-3mm时进行放肩,等径生长,晶体生长至所需尺寸后,升温20-30℃,恒温30分钟,从熔体中快速提脱晶体;
提脱晶体后,逐渐降低加热功率,即得单晶。
9.根据权利要求5所述的生长单晶的方法,其特征在于,步骤(3)中,采用提拉法生长晶体时,等径生长的直径为50-300mm;采用导模法生长晶体时,等径宽度50-300mm;
优选的,采用导模法生长晶体时,通过在熔体液面的上方放置铱金或铂铑合金模具,进行导模法晶体生长。
10.根据权利要求5所述的生长单晶的方法,其特征在于,步骤(3)中,采用提拉法生长晶体时,放肩、等径生长、收尾阶段由上称重自动等径控制系统进行控制,晶体生长至所需尺寸后,退出自动等径控制系统。
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