[发明专利]显示基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010722716.8 申请日: 2020-07-24
公开(公告)号: CN111816789A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 顾仁权;王灿;黄海涛;王利波;岳阳;姚琪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;G02F1/1335
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 王婷;姜春咸
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括发光基板,所述发光基板包括多个发光区,每个所述发光区上设置有发光层,其特征在于,还包括限定层和多个微透镜,其中,所述限定层设置在所述发光基板上,且包括多个镂空部,各个所述镂空部与各个所述发光区一一对应地设置;并且,各个所述微透镜一一对应地设置在各个所述镂空部中。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述发光基板还包括第一平坦化层,所述第一平坦化层设置在所述发光层上方,所述限定层设置在所述第一平坦化层上;

所述显示基板还包括第二平坦化层,所述第二平坦化层设置在所述限定层上,并完全覆盖所述微透镜。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第一平坦化层的折射率、所述微透镜的折射率、所述第二平坦化层的折射率及所述微透镜的曲率半径、所述微透镜的焦距、所述微透镜的口径均满足以下条件:

其中,n1为所述第一平坦化层的折射率;n2所述微透镜的折射率;n3所述第二平坦化层的折射率;r为所述微透镜的曲率半径;f为所述微透镜的焦距;D为所述微透镜的口径。

4.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板,其特征在于,所述微透镜的材料包括负性光刻胶。

5.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板,其特征在于,所述限定层的材料包括金属氧化物。

6.根据权利要求1-3任一项所述的显示基板,其特征在于,还包括彩膜基板,所述彩膜基板设置在所述发光基板上,所述微透镜设置在所述彩膜基板上,所述彩膜基板包括多个彩色滤光区,每个所述彩色滤光区上设置有彩色滤光层,各个所述彩色滤光层与各个所述发光层一一对应地设置。

7.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:

在发光基板上形成限定层;其中,所述发光基板包括多个发光区,每个所述发光区上设置有发光层,所述限定层包括多个镂空部,各个所述镂空部与各个所述发光区一一对应地设置;

在所述镂空部中形成微透镜,使各个所述微透镜与各个所述发光区一一对应。

8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在发光基板上形成限定层,进一步包括:

在所述发光基板上沉积整层膜层;

对所述整层膜层进行图形化,以得到包括多个镂空部的限定层,且使各个所述镂空部与各个所述发光区一一对应。

9.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述在所述镂空部中形成微透镜,使各个所述微透镜与各个所述发光区一一对应,进一步包括:

在所述发光基板上形成整层微透镜基层;其中,所述微透镜基层完全覆盖所述限定层,且所述微透镜基层的厚度大于或等于所述微透镜的厚度;

在所述微透镜基层上形成微透镜掩模层;其中,所述微透镜掩模层包括多个微透镜掩模,且各个所述微透镜掩模与各个所述发光区一一对应;

对所述微透镜掩模层进行刻蚀,并以所述微透镜掩模层为掩模对所述微透镜基层进行刻蚀,直至刻蚀到所述限定层,以得到多个所述微透镜,且使各个所述微透镜与各个所述发光区一一对应。

10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述在所述微透镜基层上形成微透镜掩模层,进一步包括:

在所述微透镜基层上形成整层回流层;其中,所述整层回流层完全覆盖所述微透镜基层;

对所述整层回流层进行图形化,以得到多个子回流层,并使各个所述子回流层与各个所述发光区一一对应;

对所述子回流层进行热回流,对应每个所述子回流层形成一个所述微透镜掩模,使得各个所述微透镜掩模与各个所述发光区一一对应,以形成包括多个所述微透镜掩模的所述微透镜掩模层。

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