[发明专利]校准分析测量设备的方法和校准分析测量设备的测量点

说明书

本发明涉及校准分析测量设备的方法和校准分析测量设备的测量点。方法包括：关闭出口阀使得过程介质无法通过出口阀排放到排放口；关闭入口阀使得额外的过程介质无法从第一入口进给到测量点中并且预定量的过程介质位于测量点中；将预定量的校准介质从第二入口通过入口阀进给到测量点中；通过泵来循环校准介质使得产生流动回路并且校准介质流向分析测量设备。通过泵来设定校准介质的预定流速；通过分析测量设备来检测第一测量值用于校准；至少一次重复：将预定量的校准介质进给到测量点中、通过泵循环校准介质、检测另一测量值以校准分析测量设备；评估第一测量值和后续测量值，并基于第一测量值和后续测量值的评估来执行对分析测量设备的校准。

技术领域

本发明涉及用于校准分析测量设备的各种方法，并且涉及用于分析过程介质并且用于校准分析测量设备的测量点。

背景技术

在分析测量技术中、特别是在水管理和环境分析领域和诸如食品技术、生物技术和制药业之类的工业中，以及在各种实验室应用中，气态或液态测量介质中的分析物(例如离子或溶解气体)的被测变量(例如pH值、电导率或浓度)至关重要。这些被测变量可以例如通过分析测量设备、特别是电化学传感器(例如电位传感器、安培传感器，伏安传感器或库仑传感器)或者电导率传感器来检测和/或监测。

在水管理领域中，特别是在饮用水、船舶的压载水、游泳池中的水的监测中，使用了所谓的消毒传感器，该消毒传感器适合于测量不同的参数，例如：氯、二氧化氯、溴、过氧化氢等。当必须监测相应物质的含量以确保过程系统的抗菌状态时，使用此类传感器。

消毒传感器还显示出测量值对传感器膜片的流入量的依赖性。为了获得可靠的测量结果，因此重要的是要知道流入量并能够对其进行精确调节。

消毒传感器通常是测量点的一部分或甚至是控制回路的一部分。测量点可以例如设计为流量配件或旋入式配件。相较于旋入式配件，流量配件更为优选，因为可以利用该流量配件来调节传感器膜片处的流量。

消毒传感器通常根据电化学测量原理而操作。通过电化学反应、温度影响或化学过程条件本身，传感器会经受测量信号的移位，而这种移位可以反映在变化的传感器特性中。为了确保足够的测量精度，必须校准传感器并调节零点和/或斜率。

将常规的消毒传感器从配件移除以进行校准，并且在单独的容器中、将用于零点和/或斜率确定的参考材料应用于消毒传感器。另一种校准可能性包括在配件处采样并经由参考测量方法测量所述样品。在氯的情况下，利用所谓的比色DPD测试。其结果是，消毒传感器的偏移或斜率校正只能在相当大的开销下进行。

然而，DPD测试方法具有不可忽略的测量误差，该测量误差可能在消毒传感器的调节过程中传递给消毒传感器。

因此，需要多个有时复杂的工作步骤来校准消毒传感器。这些工作步骤存在错误调节消毒传感器的误差风险，在消毒传感器的操作过程中用户可能无法检测到这种错误调节。

此外，之前已知的校准方法具有这样的缺点，即在校准过程中，与过程流配件相比，消毒传感器通常会暴露于其它流动条件、其它温度、水基质相对于参考溶液的其它成分，因此会产生测量误差。

此外，从配件移除消毒传感器为测量点的操作人员增加了额外开销。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种避免前述缺点的校准方法。

该目的通过用于在测量点中校准分析测量设备的方法实现。

根据本发明的方法至少包括以下步骤：

-提供测量点和分析测量设备，过程介质流过该测量点，其中，该测量点具有入口阀、出口阀、分析容器、计量容器以及泵，

其中，入口阀连接到用于进给过程介质的第一入口、连接到用于进给校准介质的第二入口、连接到分析容器并且连接到计量容器，