[发明专利]一种瓷介电容器的清洗工艺

权利要求书

1.一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤；

储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；

所述储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；

所述第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，所述第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，所述第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水，所述第一分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第三分支储液槽串联设置，所述储液槽内的去离子水依次流入所述第三分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第一分支储液槽；

所述第三清洗槽通过第二循环管路连接第二过滤装置，所述第三清洗槽内导电性超标的去离子水被所述第二过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回所述第三清洗槽；

所述第二过滤装置还通过输水管路与所述第一分支储液槽相连接，当所述第一分支储液槽内去离子水不足时，所述第三清洗槽输送到所述第二过滤装置的去离子水在过滤后输送给所述第一分支储液槽；

电容器依次在所述第一清洗槽、所述第二清洗槽、所述第三清洗槽内进行清洗；

所述储水装置包括串联的第一储水桶和第二储水桶，所述第一储水桶的进水口连接自来水进水管道、出水口连接所述第二储水桶的进水口，所述第二储水桶的出水口连接所述储液槽的进水口。

2.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第一清洗槽内设置有用于过滤电容器清洗产生的漂浮物的过滤芯。

3.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第二清洗槽通过第一循环管路连接第一过滤装置，所述第二清洗槽内导电性超标的去离子水被所述第一过滤装置过滤，过滤后导电性符合要求的去离子水被输送回所述第二清洗槽。