[发明专利]衍射器件、分光装置和衍射器件的制造方法在审
| 申请号： | 202010718667.0 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN112285815A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 助川隆 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/10 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 杨小明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衍射 器件 分光 装置 制造 方法 | ||
1.一种衍射器件，其特征在于，衍射器件包括ZnS构件和耦合到ZnS构件的ZnSe构件，其中，衍射光栅被设置在ZnSe构件上。
2.根据权利要求1所述的器件，其中，该器件被配置为浸没式衍射器件。
3.根据权利要求1所述的器件，其中，该衍射光栅为闪耀衍射光栅。
4.根据权利要求1所述的器件，其中，ZnSe构件的最大厚度在不小于150μm且不大于1000μm的范围内。
5.根据权利要求1所述的器件，其中，ZnS构件包括第一面和第二面，ZnSe构件耦合到所述第一面，第二ZnSe构件耦合到所述第二面，并且第二衍射光栅被设置在第二ZnSe构件上。
6.根据权利要求5所述的器件，其中，该衍射光栅的周期方向和第二衍射光栅的周期方向彼此正交。
7.根据权利要求5所述的器件，其中，该衍射光栅的光栅间距大于第二衍射光栅的光栅间距。
8.根据权利要求1所述的器件，其中，该衍射光栅被配置为能够使红外区域中的光光谱分散。
9.一种包括光学系统的分光装置，其特征在于，该光学系统包括在权利要求1～8中的任一项中限定的衍射器件。
10.一种制造衍射器件的制造方法，其特征在于，包括：
形成其中ZnS构件和ZnSe构件彼此耦合的结构体；以及
加工以在所述结构体中的ZnSe构件上形成衍射光栅。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，通过使用金刚石工具执行所述加工。
12.根据权利要求10或11所述的方法，其中，在所述形成中，通过利用光学接触结合将ZnSe构件耦合到ZnS构件来形成所述结构体。
13.根据权利要求10或11所述的方法，其中，在所述形成中，通过使用沉积方法在ZnS构件上沉积ZnSe材料来形成ZnSe构件，由此形成所述结构体。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，沉积方法包括CVD方法。
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