[发明专利]一种金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 202010714710.6 | 申请日: | 2020-07-23 |
公开(公告)号: | CN111777713A | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 吕海霞;胡凯;范丹阳 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | C08F226/06 | 分类号: | C08F226/06;C08F220/06;C08F222/14;C08F8/42;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/34 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 修斯文;蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 离子 配位双 功能 单体 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:在聚合体系中,引入双功能单体提供特异性吸附位点,随后加入金属离子为枢纽,形成双功能单体-金属离子-模板的配合物,经过热聚、洗脱、干燥得到金属配位双功能单体分子印迹聚合物。
2.根据权利要求1所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:具体是在分子印迹聚合物的聚合系统中,以4-乙烯基吡啶和甲基丙烯酸为双功能单体,加入三元致孔溶剂,以金属离子Co2+为枢纽,加入模板剂、交联剂和引发剂下聚合得到刚性聚合物,经过粉粹、研磨、筛分和洗脱得到分子印迹聚合物。
3.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述4-乙烯基吡啶4-VP其含量为3.6-7.2 mmol;功能单体甲基丙酰胺MAA与4-VP为双功能单体的摩尔比例为1:0.5-1:1.5。
4.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述三元致孔溶剂为二甲基亚砜DMSO、N,N-二甲基甲酰胺DMF和1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐[BMIM]BF4,其体积比例范围为5:1:9-5:1:10.5。
5.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述金属离子Co2+,含量为0.1-0.7 mmol。
6.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯EDMA,其含量为7.2-10.8 mmol。
7.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述模板剂为水杨酸,其含量为1.8-3.6 mmol。
8.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述引发剂为偶氮二异丁腈AIBN,其含量为20-30 mg。
9.一种如权利要求1-8任一项所述的方法制得的金属配位双功能单体分子印迹聚合物。
10.一种如权利要求1-8任一项所述的方法制得的金属配位双功能单体分子印迹聚合物在固相萃取剂上的应用,其特征在于:对水溶液中的有机污染物进行选择性固相萃取。
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