[发明专利]一种金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202010714710.6 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN111777713A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 吕海霞;胡凯;范丹阳 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C08F226/06 分类号: C08F226/06;C08F220/06;C08F222/14;C08F8/42;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/34
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 修斯文;蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 金属 离子 配位双 功能 单体 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:在聚合体系中,引入双功能单体提供特异性吸附位点,随后加入金属离子为枢纽,形成双功能单体-金属离子-模板的配合物,经过热聚、洗脱、干燥得到金属配位双功能单体分子印迹聚合物。

2.根据权利要求1所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:具体是在分子印迹聚合物的聚合系统中,以4-乙烯基吡啶和甲基丙烯酸为双功能单体,加入三元致孔溶剂,以金属离子Co2+为枢纽,加入模板剂、交联剂和引发剂下聚合得到刚性聚合物,经过粉粹、研磨、筛分和洗脱得到分子印迹聚合物。

3.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述4-乙烯基吡啶4-VP其含量为3.6-7.2 mmol;功能单体甲基丙酰胺MAA与4-VP为双功能单体的摩尔比例为1:0.5-1:1.5。

4.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述三元致孔溶剂为二甲基亚砜DMSO、N,N-二甲基甲酰胺DMF和1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐[BMIM]BF4,其体积比例范围为5:1:9-5:1:10.5。

5.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述金属离子Co2+,含量为0.1-0.7 mmol。

6.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯EDMA,其含量为7.2-10.8 mmol。

7.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述模板剂为水杨酸,其含量为1.8-3.6 mmol。

8.根据权利要求2所述的金属离子配位双功能单体分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:所述引发剂为偶氮二异丁腈AIBN,其含量为20-30 mg。

9.一种如权利要求1-8任一项所述的方法制得的金属配位双功能单体分子印迹聚合物。

10.一种如权利要求1-8任一项所述的方法制得的金属配位双功能单体分子印迹聚合物在固相萃取剂上的应用,其特征在于:对水溶液中的有机污染物进行选择性固相萃取。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010714710.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top