[发明专利]高色度颜料薄片和箔片有效
申请号: | 202010713123.5 | 申请日: | 2017-06-27 |
公开(公告)号: | CN111823750B | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | J.赛德尔;P.T.科尔曼;M.特维斯;J.J.库纳 | 申请(专利权)人: | 唯亚威通讯技术有限公司 |
主分类号: | B42D25/36 | 分类号: | B42D25/36;B42D25/373;B42D25/369;B42D25/45;G07D7/005;G07D7/04 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 色度 颜料 薄片 | ||
1.一种用于制造颜料薄片或箔片的方法,所述方法包括:
在基板上沉积第一金属层;
在所述第一金属层上沉积介电层;和
在所述介电层上沉积第二金属层;
其中使用液体涂覆工艺沉积所述介电层;
其中所述介电层包括至少一种氧化膦、按重量从0.05%到10%的聚丙烯酸酯均化剂和氧抑制缓解成分,所述氧抑制缓解成分包括胺改性聚醚丙烯酸酯和巯基改性聚酯丙烯酸酯。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述第一金属层是吸收层和反射层之一,且所述第二金属层是所述吸收层和所述反射层之一。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述基板包括释放层,其中所述第一金属层是吸收层,其中所述第二金属层是反射层。
4.如权利要求3所述的方法,其中所述方法还包括:
在所述反射层上沉积第二介电层;和
在所述第二介电层上沉积第二吸收层;
其中使用所述液体涂覆工艺沉积所述第二介电层。
5.如权利要求3所述的方法,其中所述方法还包括:
在所述反射层上沉积含磁层;
在所述含磁层上沉积第二反射层;
在所述第二反射层上沉积第二介电层;和
在所述第二介电层上沉积第二吸收层;
其中使用所述液体涂覆工艺沉积所述第二介电层。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述液体涂覆工艺包括从所述介电层蒸发溶剂。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述液体涂覆工艺包括以从0.1m/min到1000m/min的速率沉积所述介电层。
8.如权利要求1所述的方法,其中所述介电层包括3%或更小的光学厚度变化。
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