[发明专利]一种氧化还原法脱硫工艺及装置

权利要求书

1.一种氧化还原法脱硫工艺及装置，包括除尘箱(1)、以及设置在除尘箱(1)一侧的脱硫箱(7)，其特征在于，

所述除尘箱(1)一侧设置有鼓风机(2)，所述鼓风机(2)的进风口通过管道连通至沼气生产池，所述鼓风机(2)的出风口通过进气管(3)连通至除尘箱(1)的上侧壁内，所述除尘箱(1)底部一侧壁设置有第一排气管(4)，所述进气管(3)与所述第一排气管(4)之间设置有螺旋冷凝管(5)，所述螺旋冷凝管(5)外表面包裹有冷凝液(6)，

所述第一排气管(4)连通至所述脱硫箱(7)的下端，所述脱硫箱(7)内侧壁之间可拆卸设置有挡板(8)，所述挡板(8)为多孔结构，所述脱硫箱(7)一侧设置氧化还原箱(10)，所述脱硫箱(7)的下端与所述氧化还原箱(10)的下端通过第一出液管(9)连通，所述氧化还原箱(10)内设置有对沼气进行脱硫反应的过渡金属离子水溶液，

所述脱硫箱(7)上端一侧壁设置有排液管(11)，所述排液管(11)通过管道连通至氧化还原箱(10)的底端用于将过渡金属离子水溶液输送至脱硫箱(7)内，所述排液管(11)下侧壁连通有喷头(12)，所述脱硫箱(7)上端侧壁还设置有第二排气管(13)，所述第二排气管(13)的端部设置有第一滤网(20)。

2.根据权利要求1所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述氧化还原箱(10)一侧设置有氧化瓶(17)，所述氧化瓶(17)通过第三排气管(18)连通至氧化还原箱(10)的内部，所述氧化瓶(17)内的氧气将氧化还原箱(10)内的低价过渡金属离子氧化为高价过渡金属离子，再次通过排液管(11)输送至脱硫箱(7)中使用。

3.根据权利要求2所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述氧化还原箱(10)底部设置为锥形结构，所述氧化还原箱(10)下端设置有第二出液管(16)，所述第二出液管(16)位于所述氧化还原箱(10)内端处设置有第二滤网。

4.根据权利要求1所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述除尘箱(1)上端铰接设置有箱盖(24)，所述箱盖(24)与所述除尘箱(1)的交接处设置有氟橡胶层(25)，所述氟橡胶层(25)包括上氟橡胶层(251)、下氟橡胶层(252)，所述上氟橡胶层(251)设置在箱盖(24)上，所述下氟橡胶层(252)设置在除尘箱(1)上，所述上氟橡胶层(251)设置有氟橡胶凸起(253)，所述下氟橡胶层(252)设置有与所述氟橡胶凸起(253)相配合的氟橡胶凹槽(254)。

5.根据权利要求3所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述氧化还原箱(10)上端铰接设置有顶盖，所述顶盖上设置有电机(14)，所述电机(14)的输出轴贯穿该所述顶盖固定连接有搅拌轴，所述搅拌轴延伸至所述氧化还原箱(10)的底部，所述搅拌轴上设置有搅拌叶片(15)。

6.根据权利要求2所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述氧化还原箱(10)的上端侧壁设置有第四排气管(19)，所述第四排气管(19)的端处设置有第三滤网(22)，所述脱硫箱(7)上端一侧壁还设置有抽样管(31)，所述挡板(8)的下表面设置有第四滤网(23)。

7.根据权利要求6所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述进气管(3)、第一出液管(9)、第二出液管(16)、排液管(11)、第一排气管(4)、第二排气管(13)、第三排气管(18)、第四排气管(19)、抽样管(31)上均设置有阀门(28)，所述喷头(12)为高压雾化喷头。

8.根据权利要求2所述的一种氧化还原法脱硫工艺及装置，其特征在于，

所述过渡金属离子水溶液中过渡金属离子为铜离子、铁离子、钴离子或者镍离子，酸根离子为硫酸根、硝酸根或者卤素阴离子，过渡金属离子水溶液中过渡金属离子的质量百分比浓度为10～40％，所述氧化瓶(17)内氧气浓度含量为10～50％。