[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品制造方法

说明书

本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。

技术领域

本发明涉及光学装置、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

由于附着在光学部件上的化学物质或其他杂质会给包括光学部件的装置或设备的功能及性能带来影响，所以，需要用于抑制化学物质或杂质向光学部件附着的对策。例如，对于将原版的图形向基板转印的曝光装置，在通过来自光源的光(曝光光线)照射原版的照明光学系统或准确地投影原版的图形的投影光学系统中，使用了透镜或反光镜等光学部件。在这样的曝光装置中，随着曝光光线的短波长化，存在着在该曝光光线所透过或者所照射的光学部件上产生暗锈的问题。成为光学部件的暗锈形成原因的物质是有机化合物或硫酸铵(NH₄)₂SO₄。它们是存在于空气中的铵离子(NH₄⁺)和硫酸离子(SO₄^2－)或者其化合物或有机气体通过曝光光线的照射而发生了光化学反应而成的物质。可认为由于该物质附着于光学部件而在光学部件上产生暗锈。

针对这样的课题，在对曝光装置内的温度、湿度、尘埃进行控制的环境腔中设置杂质除去过滤器，进行针对环境腔的环境中所存在的碱性气体、硫酸气体、有机化合气体等物质的除去。另外，对环境腔内所使用的部件类实施清洗等处理，润滑剂等也选定的是脱气体量少的类型。

另外，在日本特开2001－028331号公报中提出了以下技术：将构成曝光装置的光学部件收容在镜筒中，将该镜筒设为密闭空间，利用清洁度比环境腔内的空气高的空气对镜筒内进行清洗。进而，在日本特开2006－245401号公报中也提出了以下技术：通过针对暴露在环境腔中的光学部件(的表面)以及其附近的空间，以不会卷入周边的污染物质的规定流速来喷吹清洁度高的空气，从而防止杂质向光学部件附着。

发明内容

发明所要解决的课题

在日本特开2006－245401号公报中，针对暴露在环境腔内的光学部件以及其附近的空间喷吹清洁度高的空气，并且由整流板抑制气流的紊乱，从而防止杂质向光学部件附着。日本特开2006－245401号公报所公开的技术对于半导体用的曝光装置等处理尺寸比较小的基板的装置而言是有效的。

但是，LCD或OLED等平板显示器用的曝光装置由于所处理的基板的尺寸大，所以，喷吹清洁度高的空气的光学部件以及其附近的空间也变大。因此，在平板显示器用的曝光装置中，为了形成与半导体用的曝光装置同样的气流，需要的是半导体用的曝光装置中所需的流量的大约100倍的流量。

为了将此实现，需要用于供给大流量的清洁度高的空气的空调设备，因而，导致成本的增加，并且必须要在装置内确保配置整流板的空间或用于布置空气吹出口及导管的空间。但是，由于在平板显示器用的曝光装置中设置有用于修正高精细化或各种光学性能的多个光学部件，所以，特别是工作台(物体面或成像面)与最近接工作台的光学部件的间隔变狭。因而，难以确保配置整流板的空间或用于布置空气吹出口及导管的空间，并不现实。

本发明提供有利于抑制污染物质向光学部件附着的光学装置。

用于解决课题的方案

作为本发明的一方面的光学装置，其特征在于，该光学装置具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，上述光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。