[发明专利]一种祛痘组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种祛痘组合物，其特征是，包括单独包装的中性渗透乳和酸性收敛水，所述中性渗透乳的原料以重量份计包括：缓释颗粒40～50份、角鲨烷18～22份、胆甾醇12～18份、大豆甾醇12～18份、黄原胶15～20份、鲸蜡硬脂醇18～20份、聚山梨醇酯15～18份、丙二醇二癸酸酯12～16份、甘油三(乙基己酸)酯12～15份、氢化卵磷脂18～22份、聚二甲基硅氧烷10～15份、芦荟提取物14～18份、葛根提取物14～18份、硅酸铝镁15～20份、羟苯丙酯0.1～0.5份、羟苯甲酯0.5～1份、甘油15～20份、水1000～2000份；所述酸性收敛水的原料以重量份计包括：乙醇150～200份、薄荷醇0.5～1份、PEG-60氢化蓖麻油10～20份、北美金缕梅提取物5～8份、透明质酸钠1～3份、谷胱甘肽5～10份、柠檬酸0.1～0.2份、1,3-丁二醇20～44份、羟苯甲酯0.1～0.2份、水800～900份。

2.根据权利要求1所述的一种祛痘组合物，其特征是，所述缓释颗粒的制备方法为：

(1)将气相二氧化硅分散在去离子水中，95～105℃加热搅拌40～60min得到分散液，然后将3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、甲醇和去离子水的混合溶液滴加至分散液中，95～105℃加热搅拌6～10h，得到表面改性二氧化硅；

(2)将十六烷基三甲基溴化铵加入去离子水中，30～40℃下搅拌20～30min，然后加入四甲基氢氧化铵溶液，搅拌20～30min，再加入表面改性二氧化硅，搅拌2～3h后将混合液转移至聚四氟乙烯反应釜中，室温老化20～30h，135～145℃烘箱晶化3～4d；

(3)将晶化后的产物用去离子水清洗、烘干、焙烧后得到介孔二氧化硅，焙烧条件为：以1～3℃/min的速度从室温升温至280～300℃，保温8～10h；

(4)将介孔二氧化硅加入谷胱甘肽溶液中，50～55℃搅拌反应20～30h，过滤并将产物用乙醇洗涤后干燥得到谷胱甘肽修饰的介孔二氧化硅；

(5)将谷胱甘肽修饰的介孔二氧化硅分散在水杨酸的乙醇溶液中，搅拌12～20h后得到负载水杨酸的介孔二氧化硅；

(6)将质量比为(5～8)：1的聚乙烯亚胺与盐酸胍混合，氮气保护下90～100℃加热搅拌反应2～3h，然后升温至155～165℃继续搅拌反应3～5h，冷却至室温后将产物清洗干燥得到胍基聚乙烯亚胺；

(7)将胍基聚乙烯亚胺溶于去离子水中，然后加入负载水杨酸的介孔二氧化硅，室温反应20～30h后过滤，将产物用甲醇洗涤并烘干后得到所述缓释颗粒。

3.根据权利要求2所述的一种祛痘组合物，其特征是，步骤(1)中所述的分散液中气相二氧化硅与去离子水的质量体积比为1g：(100～200mL)；所述的混合溶液中3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、甲醇和去离子水的质量比为(0.1～0.2)：

(8～10)：(65～70)，加入的混合溶液中的3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷与分散液中的气相二氧化硅的质量比为(0.5～0.8)：1。

4.根据权利要求2所述的一种祛痘组合物，其特征是，步骤(2)中所述的十六烷基三甲基溴化铵、去离子水、四甲基氢氧化铵和改性二氧化硅的质量比为(0.2～0.3)：

(35～45)：(0.1～0.3)：1。

5.根据权利要求2所述的一种祛痘组合物，其特征是，步骤(4)中所述谷胱甘肽溶液由谷胱甘肽溶于pH＝7的磷酸盐缓冲溶液中制得，所述谷胱甘肽溶液中谷胱甘肽的浓度为6～10mg/mL，加入的介孔二氧化硅与谷胱甘肽的质量比为(10～15)：1。

6.根据权利要求2所述的一种祛痘组合物，其特征是，步骤(5)中所述的水杨酸的乙醇溶液的浓度为0.2～0.4g/mL，所述谷胱甘肽修饰的介孔二氧化硅与水杨酸的乙醇溶液的质量体积比为1g：(100～200mL)。

7.根据权利要求2所述的一种祛痘组合物，其特征是，步骤(7)中胍基聚乙烯亚胺与去离子水的质量体积比为1g：(100～200mL)，加入的负载水杨酸的介孔二氧化硅与胍基聚乙烯亚胺的质量比为(2～4)：1。