[发明专利]一种快速检测芯片制备及应用

权利要求书

1.一种快速检测芯片的制备方法及应用，其特征在于，该方法包括：

(1)在基底表面形成高粘附性区域和低粘附性区域形成的图案；

(2)在高粘附区域分别预沉积检测试剂；

(3)将待检测物溶液滴加在快速检测芯片上；

(4)待检测物液滴自发切割成微液滴；

(5)待检测物微液滴附着在高粘附性区域；

(6)高粘附性区域预沉积的检测试剂分别检测附着的待检测物微液滴。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(1)中，所述的基底可以为硅，铝，铁，金，银，铜，纸，塑料，木材中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(1)中，所述的高粘附性区域由高粘附性修饰得到；

其中，优选情况下，高粘附修饰方法选自氧等离子体刻蚀、离子束刻蚀、紫外光照处理、气相沉积低粘附材料、液相沉积低粘附材料、打印高粘附性材料、旋涂高粘附材料、喷涂高粘附材料等方法中的一种或几种；

其中，高黏附材料选自高粘附有机物、高粘附纳米粒子、高粘附无机物中的一种或多种；其中高粘附有机物包括聚丙烯酸、巯基十二烷酸、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、聚丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、蔗糖、醋酸纤维素、聚多巴胺、羟甲基纤维素中的一种或多种；高粘附纳米粒子包括纳米二氧化钛，石墨烯纳米片，碳纳米管，纳米银，纳米金，纳米铂，纳米铜，纳米铝，纳米聚苯乙烯粒子中的一种或几种，高粘附无机物包括氯化铜，氯化钠，氯化镁，硝酸银，硝酸铁，氯化钾中的一种或几种；

所述的低粘附性区域由低粘附修饰得到；

其中，优选情况下，低粘附修饰方法选自化学气相处理、化学液相处理、旋涂低粘附材料、喷涂低粘附材料中的一种或几种；低粘附性材料选自低粘附有机物、低粘附纳米粒子中的一种或几种；

其中，低粘附有机物包括硅油、二甲基硅油、全氟癸基三乙氧基硅烷、十八烷基三氯硅烷、正癸基三氯硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、聚苯乙烯、聚四氟乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺、聚碳酸酯中的一种或几种；低粘附纳米粒子包括纳米聚四氟乙烯、巯基二氧化硅纳米粒子等中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(1)中，基底表面形成的由高粘附性区域和低粘附性区域组成的图案没有具体的限制，可以根据需要进行设计，例如，在本发明中，高粘附区域可以为规整的扇形、三角形、正方形、五边形、六边形，高粘附区域分布可以为对心均匀分布，也可以平行分布；高粘附区域个数可以为1-12个；另外，在本发明中，高粘附性区域也可以为不规则形状或者具有特性形貌，可根据需要进行调节和设计；本发明中，所述的图案优选为规整的扇形，个数优选为2-8个。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(2)中，基底表面的高粘附性区域可以预沉积检测试剂，不同区域预沉积的检测试剂可以为同一种类，也可以为不同种类，检测试剂包括无机物、纳米材料、有机物中的一种或多种；

其中，优选情况下，无机物包括碳酸氢钠、硝酸银、硫酸铜、亚铁氰化钾、硫氰化钾、碘化钾、氯化铁、氢氧化铜、氯化钠中的一种或多种；

其中，优选情况下，纳米材料包括石墨烯纳米片、碳纳米管、纳米二氧化钛，纳米银，纳米金，纳米铂，纳米铜，纳米铝，纳米聚苯乙烯粒子中得一种或几种；

其中，优选情况下，有机物包括锌试剂、丁二酮肟、二乙基二硫代氨基甲酸钠、二苯氨基脲、半乳糖苷酶、4-(2-吡啶偶氮)间苯二酚、石蕊、酚酞、四甲基联苯胺、吡咯烷二硫代甲酸铵、乙二胺四乙酸中的一种或几种。