[发明专利]多个带电粒子束的装置有效
| 申请号: | 202010663424.1 | 申请日: | 2016-07-21 |
| 公开(公告)号: | CN111681939B | 公开(公告)日: | 2023-10-27 |
| 发明(设计)人: | 任伟明;刘学东;胡学让;陈仲玮 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/147 | 分类号: | H01J37/147;H01J37/06;H01J37/12;H01J37/141;H01J37/145;H01J37/28 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 吕世磊 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 带电 粒子束 装置 | ||
1.一种用于减小多束装置的小束的像差的装置,所述装置包括:
多个电子光学元件,被配置为将由所述多束装置生成的多个小束以不同的偏转角朝向所述多束装置的主光轴引导,其中所述多个小束的所述偏转角被独立设置为分别减小由所述多个小束形成的多个探测点的像差;以及
多个束限制开口,被配置为限制所述多个探测点的电流。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个电子光学元件分别在所述多个束限制开口下方并且与所述多个束限制开口对准。
3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述多个束限制开口被配置为从由所述多束装置生成的大致平行束形成所述多个小束。
4.根据权利要求2所述的装置,还包括分别在所述多个束限制开口上方的多个预弯曲微偏转器,被配置为:
从由所述多束装置生成的大致平行束形成所述多个小束;以及
将所述多个小束引导为垂直入射到所述多个束限制开口中。
5.根据权利要求2所述的装置,其中,所述多个电子光学元件中的每个电子光学元件是4极透镜。
6.根据权利要求2所述的装置,其中,所述多个电子光学元件补偿所述多个探测点的场曲率、像散或失真像差中的至少一项,以进一步减小所述多个探测点的尺寸和失真。
7.根据权利要求6所述的装置,其中,所述多个电子光学元件中的每个电子光学元件是8极透镜。
8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述多个电子光学元件中的每个电子光学元件包括与每个电子光学元件的光轴对准并且沿着每个电子光学元件的光轴放置的一个微透镜和两个4极透镜,并且所述两个4极透镜的方位差45°。
9.根据权利要求8所述的装置,其中,对于所述多个电子光学元件中的所述每个电子光学元件,所述两个4极透镜中的一个4极透镜在小束离开侧上,并且一个对应的小束被所述一个4极透镜偏转。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,通过改变所述多个小束的电势来改变所述多个小束的着陆能量。
11.根据权利要求2所述的装置,还包括在所述多个束限制开口与所述多个电子光学元件之间的聚光透镜,被配置为对要分别由所述多个电子光学元件朝向所述主光轴引导的所述多个小束进行聚焦。
12.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个电子光学元件分别在所述多个束限制开口上方并且与所述多个束限制开口对准。
13.根据权利要求12所述的装置,其中,所述多个电子光学元件被配置为从由所述多束装置生成的大致平行束形成所述多个小束。
14.一种用于减小多束装置的小束的像差的方法,所述方法包括:
生成带电粒子的多个小束;
使用多个电子光学元件将所述多个小束以不同的偏转角朝向所述多束装置的主光轴引导;以及
独立设置所述偏转角,以减小分别由所述多个小束形成的多个探测点的像差。
15.根据权利要求14所述的方法,还包括:
使用所述多个电子光学元件补偿所述多个探测点的场曲率、像散或失真像差中的至少一项,以进一步减小所述多个探测点的尺寸和失真。
16.根据权利要求14所述的方法,其中,生成带电粒子的所述多个小束包括:
使用所述多个电子光学元件从由所述多束装置生成的大致平行束形成所述多个小束。
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