[发明专利]一种显示面板、其制作方法及显示装置在审
申请号: | 202010660421.2 | 申请日: | 2020-07-10 |
公开(公告)号: | CN111769205A | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 张永峰;黄睿;梁志伟;闫华杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;G02B30/27;G02B30/30 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 金俊姬 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其中,包括:
基底,所述基底具有多个子像素单元;
所述子像素单元包括至少两个同层独立设置的第一电极,所述第一电极包括层叠设置的至少两个导电层;其中,远离所述基底的顶层导电层的边缘超出底层导电层的边缘,且所述底层导电层在所述基底上的正投影落入所述顶层导电层在所述基底上的正投影范围内,所述顶层导电层的边缘超出所述底层导电层的边缘的部分向所述基底一侧延伸构成坡面。
2.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述第一电极包括层叠设置的两个导电层,其中,所述顶层导电层的材料包括ITO、IZO、IGZO、TiN、Mo其中之一或组合,所述底层导电层的材料包括Al、AlNd、Mo、Ti、TiN其中之一或组合。
3.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述坡面的坡角小于60°。
4.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述顶层导电层的边缘超出所述底层导电层的边缘的部分的坡面长度为0.2μm-0.6μm。
5.如权利要求1所述的显示面板,其中,所述子像素单元还包括位于所述第一电极背离所述基底一侧的有机功能层;所述有机功能层包括发光层以及位于所述第一电极和所述发光层之间的发光串扰层,所述发光串扰层为P型掺杂层;其中,
各所述子像素单元内的发光串扰层相互独立,各所述子像素单元内的发光层相互独立。
6.如权利要求5所述的显示面板,其中,沿背离所述基底的方向,所述有机功能层还包括位于所述第一电极和所述发光层之间层叠设置的空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层;
各所述子像素单元内的空穴注入层为一体结构,各所述子像素单元内的空穴传输层为一体结构,各所述子像素单元内的电子阻挡层相互独立,所述发光串扰层位于所述电子阻挡层和所述空穴传输层之间。
7.如权利要求6所述的显示面板,其中,所述有机功能层还包括位于所述发光层背离所述基底一侧依次层叠设置的空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层;
各所述子像素单元内的空穴阻挡层为一体结构,各所述子像素单元内的电子传输层为一体结构,各所述子像素单元内的电子注入层相互独立;
所述电子注入层为N型掺杂层。
8.如权利要求1所述的显示面板,其中,相邻所述第一电极之间的间距小于等于2.5μm。
9.如权利要求5所述的显示面板,其中,所述发光串扰层的厚度为600埃-1200埃,所述发光串扰层中P型掺杂材料的掺杂浓度小于等于5%。
10.如权利要求9所述的显示面板,其中,所述发光串扰层的厚度为900埃-1000埃,所述发光串扰层中P型掺杂材料的掺杂浓度3%-5%。
11.如权利要求5所述的显示面板,其中,还包括:位于所述基底与所述第一电极之间的平坦层,以及位于所述有机功能层背离所述基底一侧依次层叠设置的阴极、耦合出光层和封装层;所述第一电极为阳极;
所述基底包括多个驱动电极,各所述第一电极分别通过贯穿所述平坦层的过孔与对应的所述驱动电极电连接。
12.一种显示装置,其中,包括如权利要求1-11任一项所述的显示面板。
13.一种显示面板的制作方法,其中,包括:
提供基底;
在所述基底的各子像素单元内形成至少两个同层独立设置的第一电极;其中,所述第一电极包括层叠设置的至少两个导电层,远离所述基底的顶层导电层的边缘超出底层导电层的边缘,且所述底层导电层在所述基底上的正投影落入所述顶层导电层在所述基底上的正投影范围内,所述顶层导电层的边缘超出所述底层导电层的边缘的部分向所述基底一侧延伸构成坡面。
14.如权利要求13所述的制作方法,其中,在所述基底的各子像素单元内形成至少两个独立设置的第一电极,具体包括:
在所述基底上沉积底层导电薄膜;所述底层导电薄膜的材料包括Al、AlNd、Mo、Ti、TiN其中之一或组合;
在所述底层导电薄膜背离所述基底一侧沉积顶层导电薄膜;所述顶层导电薄膜材料包括ITO、IZO、IGZO、TiN、Mo其中之一或组合;
在所述顶层导电薄膜背离所述基底一侧涂覆光刻胶,并对所述光刻胶进行曝光、显影;
刻蚀掉去除光刻胶部分的底层导电薄膜和顶层导电薄膜,形成顶层导电层;
对剩余的所述底层导电薄膜进行湿刻形成底层导电层,以使所述顶层导电层的边缘超出所述底层导电层的边缘;
剥离剩余的光刻胶;
采用包含氩气、氧气、氮气的等离子体轰击所述顶层导电层,使所述顶层导电层的边缘超出所述底层导电层的边缘的部分向所述基底一侧延伸,以形成坡面。
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