[发明专利]一种高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，包括以下原料：聚酰胺酸树脂、黑色颜料、遮蔽剂、分散剂；其中，黑色颜料由炭黑和氟化石墨烯复配组成。

2.根据权利要求1所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，以聚酰胺酸树脂的固含量计，黑色颜料的重量为其固含量重量的0.5-12％、遮蔽剂的重量为其固含量重量的0.5-12％。

3.根据权利要求1或2所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述分散剂为高分子量共聚物的烷基铵盐、含颜料亲和基团的高分子量嵌段共聚物溶液、含酸性基团聚酯结构的高分子液中的任意一种或一种以上；优选地，分散剂的用量为黑色颜料重量的2-50％。

4.根据权利要求1-3任一项所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述聚酰胺酸树脂是由芳香二胺和芳香二酐在非质子强极性溶剂中缩聚得到；优选地，聚酰胺酸树脂的黏度为50-150Pa·s。

5.根据权利要求1-4任一项所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述黑色颜料中炭黑和氟化石墨烯的重量比为0.1-0.5：1；优选地，炭黑为低导电炭黑，粒径≤0.1μm；优选地，氟化石墨烯的粒径≤0.5μm。

6.根据权利要求1-5任一项所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述遮蔽剂为二氧化钛，其粒径≤1μm。

7.一种基于权利要求1-6任一项所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、向黑色颜料和遮蔽剂中加入溶剂和分散剂，研磨分散，得黑色浆料；

S2、将黑色浆料加入聚酰胺酸树脂中，搅拌，得黑色聚酰胺酸树脂；

S3、将黑色聚酰胺酸树脂流延成膜，得到自支撑薄膜；

S4、将所述自支撑薄膜经热亚胺化，并进行纵向拉伸、横向拉伸，即得黑色聚酰亚胺薄膜。

8.根据权利要求7所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜的制备工艺，其特征在于，S1中，采用分散釜进行研磨分散，其中，分散釜转速为800-3000r/min，研磨时间为0.5-3h；优选地，溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡络烷酮中的任意一种。

9.根据权利要求7所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜的制备工艺，其特征在于，S3中，流延温度为150-200℃，流延速度为3-6m/min。

10.根据权利要求7所述的高电气强度高遮蔽性黑色聚酰亚胺薄膜的制备工艺，其特征在于，S4中，热亚胺化的条件为：100-450℃进行50℃梯度升温处理；优选地，纵向拉伸倍率为1.0-1.1倍，横向拉伸倍率为1.0-1.2。