[发明专利]使用同轴波导的等离子体装置以及基板处理方法

说明书

一种等离子体装置的示例包括：同轴波导，其具有内导体和包围该内导体的外导体，其中在外导体和内导体之间设置有第一间隙，所述同轴波导具有在多个分支部处分支的形状；多个杆，其具有导体和包围该导体的电介质，其中在电介质和导体之间设置有第二间隙，所述多个杆连接在分支部处分支的同轴波导的两个端部，以连接第一间隙和第二间隙；以及导电桩，其设置在同轴波导的通过在分支部处分支而获得的分支部分处，所述导电桩可插入第一间隙并且可从第一间隙移除。

技术领域

描述的示例涉及使用同轴波导的等离子体装置以及使用该等离子体装置的基板处理方法。

背景技术

如在WO2011/021607中公开，在一些等离子体装置中，微波用作等离子体源。该等离子体装置具有可从外导体侧延伸到内导体侧的桩构件。内导体相对于外导体的中心在位置上移位，并且由于内导体和外导体之间的径向间隙不均匀，这使得微波强度不均匀。提供桩构件以减轻由于位置移位引起的不利影响。

存在具有与WO2011/021607不同的基本结构的等离子体装置。具体地，具有分支形状的同轴波导通过覆盖有电介质的杆连接，并且从同轴波导将微波提供到电介质中。即，从同轴波导的微波引入部引导的微波通过同轴波导的分支结构传输，最终到达多个杆。通过杆的电介质产生的电场导致产生等离子体。通过使用多个杆产生等离子体的这种等离子体装置不能控制提供给多个杆的微波功率的比率。

发明内容

本文描述的一些示例可以解决上述问题。本文描述的一些示例可以提供一种能够控制等离子体分布的等离子体装置和基板处理方法。

在一些示例中，一种等离子体装置包括：同轴波导，其具有内导体和包围该内导体的外导体，其中在外导体和内导体之间设置有第一间隙，所述同轴波导具有在多个分支部处分支的形状；多个杆，其具有导体和包围该导体的电介质，其中在电介质和导体之间设置有第二间隙，所述多个杆连接在分支部处分支的同轴波导的两个端部，以连接第一间隙和第二间隙；以及导电桩，其设置在同轴波导的通过在分支部处分支而获得的分支部分处，所述导电桩可插入第一间隙并且可从第一间隙移除。

附图说明

图1是表示等离子体装置的构造示例的透视图；

图2A是等离子体装置的局部横截面图；

图2B是同轴波导的横截面图；

图2C是杆的横截面图；

图3是等离子体装置的平面图；

图4是分支部的透视图；

图5是同轴波导的一部分的横截面图；

图6示出了根据另一示例的桩；

图7示出了根据又一示例的桩；

图8是桩的俯视图；

图9示出了桩的布置示例；

图10是表示电磁场模拟结果的图；

图11示出了杆的电场强度；

图12示出了杆的电场强度；以及

图13示出了杆的电场强度。

具体实施方式

将参考附图描述等离子体装置和基板处理方法。相同的附图标记可以用于相同或相应的部件，从而省略了多余的描述。

图1是示出等离子体装置的构造示例的透视图。该等离子体装置包括微波引入部10。同轴波导12连接到微波引入部10。从等离子体装置外的微波发生器经由微波引入部10向同轴波导12提供微波。调谐器11设置在微波引入部10的附近。调谐器11使微波引入部10内的反射波再次前进至同轴波导12。