[发明专利]半导体封装结构和其制造方法在审
申请号: | 202010655249.1 | 申请日: | 2020-07-09 |
公开(公告)号: | CN112242361A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 刘玮玮;翁辉翔;赖律名 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L21/56 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
地址: | 中国台湾高雄市楠梓*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 结构 制造 方法 | ||
1.一种半导体封装结构,其包括:
电子设备,所述电子设备具有邻近于第一表面的暴露区;
坝,所述坝围绕所述电子设备的所述暴露区并安置在第一表面上,所述坝包括远离所述第一表面的上表面;
包封料,所述包封料包封所述电子设备的所述第一表面,所述包封料暴露所述电子设备的所述暴露区,
其中所述坝的表面从所述包封料的上表面缩回。
2.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述暴露区包括可移动部分。
3.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述可移动部分包括膜。
4.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其进一步包括导电端,所述导电端位于所述第一表面上,所述导电端电连接到所述暴露区。
5.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中从俯视图角度看,所述暴露区包括圆形形状。
6.根据权利要求5所述的半导体封装结构,其中从俯视图角度看,所述坝包括圆形形状。
7.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中所述坝未投射于所述暴露区之上。
8.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其中从横截面角度看,所述坝包括圆角。
9.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其进一步包括导电通孔,所述导电通孔位于所述包封料中并且与所述暴露区电耦接。
10.根据权利要求1所述的半导体封装结构,其进一步包括导电通孔,所述导电通孔位于所述电子设备中并且与所述暴露区电耦接。
11.一种半导体封装结构,其包括:
电子设备,所述电子设备具有邻近于第一表面的暴露区;以及
坝,所述坝围绕所述电子设备的所述暴露区并安置在所述第一表面上,所述坝包括覆盖第二电介质的第一电介质。
12.根据权利要求11所述的半导体封装结构,其中所述第一电介质与所述第二电介质的上表面接触。
13.根据权利要求12所述的半导体封装结构,其中所述第一电介质进一步与所述第二电介质的侧表面接触。
14.根据权利要求11所述的半导体封装结构,其中所述第一电介质包括环氧树脂基材料。
15.根据权利要求11所述的半导体封装结构,其中所述第二电介质包括聚酰亚胺或聚苯并噁唑。
16.根据权利要求11所述的半导体封装结构,其进一步包括包封料,所述包封料包封所述电子设备和所述坝,所述包封料包括上表面,所述上表面的一部分基本上高于所述坝的上表面。
17.一种用于制造半导体封装结构的方法,所述方法包括:
在电子设备的第一表面之上图案化钝化层;
在所述第一表面上邻近于所述钝化层图案化坝;以及
去除所述钝化层的至少一部分并暴露所述电子设备的所述第一表面。
18.根据权利要求17所述的方法,其中去除所述钝化层的至少一部分包括执行定向蚀刻。
19.根据权利要求17所述的方法,其进一步包括包封所述电子设备并在所述钝化层之上形成开放腔。
20.根据权利要求17所述的方法,其中去除所述钝化层的至少一部分进一步包括去除所述坝的一部分。
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