[发明专利]一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺有效

专利信息
申请号: 202010652680.0 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111712065B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 华福德;张志敏 申请(专利权)人: 高德(江苏)电子科技股份有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/46
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;夏苏娟
地址: 214101 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 避免 软硬 结合 板孔铜 断裂 加工 工艺
【权利要求书】:

1.一种避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤,

A. 制作印刷线路软硬结合板的软板层(1):以软板(1.1)为中间层,软板(1.1)的上下均覆盖一层软板铜箔(1.2);

B. 制作第一介质层半固化片(2),第一介质层半固化片(2)对应软区位置开设窗口(2.1);

C. 制作硬板层(3):以硬板(3.1)为中间层,硬板(3.1)的上下铺设硬板铜箔(3.2),硬板铜箔(3.2)上开有软硬交接线避让口(3.3);

D. 制作第二介质层半固化片(4);

E. 准备铜箔(5);

F. 按照铜箔(5)、第二介质层半固化片(4)、硬板层(3)、第一介质层半固化片(2)、软板层(1)、第一介质层半固化片(2)、硬板层(3)、第二介质层半固化片(4)、铜箔(5)的顺序自上到下依次设置,经过压合后得到产品软硬结合板;

G. 在压合后的软硬结合板上进行机械钻孔;

H. 在机械钻孔孔内和软硬结合板的上下表面进行镀铜,孔铜总铜厚为T,分两次或三次进行电镀,最后一次电镀的孔铜铜厚不少于12.5微米;

所述步骤H中,第一次电镀孔铜厚度T1为5-8微米;T-T120.5微米时,分两次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2=T-T1,且T2≥12.5微米;T-T1≥20.5微米时,分三次进行电镀,第二次电镀孔铜厚度T2'为5-8微米,第三次电镀孔铜厚T3=T-T1-T2',且T3≥12.5微米。

2.如权利要求1所述的避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,所述步骤A中软板层(1)对应成品板需要弯折的区域点粘并压合覆盖膜(6)。

3.如权利要求1所述的避免软硬结合板孔铜断裂的加工工艺,其特征在于,所述第二介质层半固化片(4)压合后填铜厚度为:0.075mm。

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