[发明专利]蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其包含：

10重量％～30重量％的过氧化氢，

小于0.1重量％的有机磷化合物，以及

相对于所述有机磷化合物，以1:3～10:10～30的重量比含有的氟化合物和磷酸化合物，

并且包含使总重量成为100重量％的余量的水。

2.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述有机磷化合物包含含多聚磷酸基的化合物。

3.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，进一步包含选自硝酸盐、硫酸盐和盐酸盐中的无机酸盐。

4.根据权利要求3所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，进一步包含有机酸、其盐或它们的组合。

5.根据权利要求4所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述无机酸盐和有机酸盐彼此独立地包含铵离子、碱金属离子或碱土金属离子。

6.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，进一步包含选自蚀刻抑制剂、螯合剂、溶剂、双氧水稳定剂和pH调节剂中的一种或两种以上的添加剂。

7.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述铜膜和含钼膜是包含选自铜膜和铜合金膜中的一种以上的膜与选自钼膜和钼合金膜中的一种以上的膜的多层膜。

8.一种显示基板的制造方法，其包括如下步骤：

在基板上形成包含铜膜和含钼膜的金属层的步骤，以及

在所述金属层上形成光致抗蚀剂图案后，蚀刻具有所述金属层和所述光致抗蚀剂图案的基板，部分去除所述金属层而形成金属配线的步骤，

所述蚀刻是利用权利要求1至7中任一项所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物进行处理而实施的。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其中，在所述金属层中，所述铜膜的锥角为45°至58°。

10.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其中，所述金属层的部分表面进一步包括选自硅绝缘膜和透明导电膜中的一者的单膜或两者以上的多层膜。