[发明专利]应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法在审

专利信息
申请号: 202010625801.2 申请日: 2020-07-01
公开(公告)号: CN111595822A 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 盛嘉伟;严俊;张俭;孙青 申请(专利权)人: 浙江工业大学温州科学技术研究院
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47;G01N21/31;G01N21/87
代理公司: 温州知远专利代理事务所(特殊普通合伙) 33262 代理人: 汤时达;刘超
地址: 325000 浙江省温州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 应用 漫反射 光谱 结合 光学 显微 进行 处理 珍珠 方法
【权利要求书】:

1.应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:通过光学显微镜初步分辨待测样品是否为珍珠或仿珍珠;再通过紫外可见漫反射光谱对上述珍珠进行检测,根据得到的紫外可见漫反射光谱图判定是否经过处理。

2.根据权利要求1所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:初筛步骤如下:

S1:采用光学显微镜对待测样品进行观察,通过待测样品表面是否存在等高线,确认是否为珍珠或仿珍珠,并对珍珠进行以下光谱检测;

S2:采用紫外可见漫反射光谱仪对上述S1步骤中检定为珍珠的待测样品进行反射光谱的采集,并得到相应的紫外可见漫反射光谱图;

S3:依据上述S2所获得的待测样品紫外可见漫反射光谱图中278±5 nm处的吸收峰的强度,进而对珍珠是否经处理进行判定;得到结果。

3.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:待测样品包括淡海水养殖环境下的有核与无核珍珠;不包括:内核在经热处理或辐照处理或染色处理或以上多种方法综合处理后再进行植核的有核珍珠和环境或人为因素对珍珠的珍珠层产生影响的珍珠。

4.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:S1中未见珍珠表面存在等高线,则定性为仿珍珠;若珍珠表面存在等高线则为珍珠;S2中紫外可见漫反射光谱图的横坐标为波长,有效波长范围为200~800 nm;纵坐标为反射率。

5.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:S2中对同一待测样品的不同测试区域进行紫外可见漫反射光谱图采集;S3中所有测试区域对应的紫外可见漫反射光谱图中在278±5 nm处无吸收峰位或吸收峰位不明显,初步判定待测样品珍珠经处理。

6.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:珍珠表面测试区域的紫外可见漫反射光谱图中,任意一个测试区域对应的紫外可见漫反射光谱图在278±5 nm处皆存在吸收峰,但其吸收强度0≤R<1,则初步判断该珍珠经处理;其中,所述的吸收强度R=h/w,h为上述278±5 nm处吸收峰的峰高,w为该处吸收峰的基线宽度,R即该处吸收峰的最高点与吸收峰基线的垂直距离。

7.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:珍珠表面任意测试区域对应的紫外可见漫反射光谱图中,任意一个测试区域在278±5 nm处皆存在吸收峰,且吸收强度1≤R,则初步判断该珍珠未经优化处理。

8.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:珍珠表面任意测试区域对应的紫外可见漫反射光谱图中,部分测试区域紫外可见漫反射光谱图中在278±5 nm处存在吸收峰,且吸收强度0<R<1;与此同时,存在部分测试区域对应的紫外可见漫反射光谱图在278±5 nm处存在吸收峰,但吸收强度1≤R,初步判断该珍珠部分区域经处理。

9.根据权利要求5-8所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:处理方法包括热处理、辐照处理、无机或有机染料改色处理中的一种或多种方式。

10.根据权利要求2所述的应用漫反射光谱结合光学显微进行处理珍珠的初筛方法,其特征在于:通过紫外可见漫反射光谱仪在进行待测样品表面检测时,需在待测样品表面的2个圆周上选取测试区域予以采集,且每个圆周上测试测试区域不少于3处,即测试谱线的条数为不低于6条。

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