[发明专利]自清洁打磨装置及打磨方法

权利要求书

1.自清洁打磨装置，其特征在于：

工件放置治具（100）；

抓取装置（200），通过夹持和/或真空吸附和/或磁吸进行物体抓取；

打磨机构（300），高度低于所述抓取装置的高度，其包括打磨头（310）及驱动所述打磨头自转的旋转驱动机构（320）；

废渣收集斗（400），其包括在不同侧的第一开口（410）及第二开口（420），所述废渣收集斗（400）内形成由第一开口（410）向第二开口（420）移动的气流，所述打磨头（310）位于所述废渣收集斗（400）内，所述旋转驱动机构（320）由所述废渣收集斗（400）外延伸到其内；

移动机构（500），具有驱动所述抓取装置（200）沿纵向和水平方向移动的结构，且抓取装置（200）可在工件放置治具（100）及废渣收集斗（400）的第一开口之间移动。

2.根据权利要求1所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述工件放置治具（100）可从所述抓取装置（200）的正下方移动至所述抓取装置（200）的外侧。

3.根据权利要求1所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述抓取装置（200）包括两个相对的夹爪（210）及驱动它们夹持或打开的驱动装置（220），所述夹爪（210）包括压板（211）及位于其相对两侧的侧限位部（212）。

4.根据权利要求3所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述压板（211）可自转且至少一个压板（211）连接驱动其自转的旋动装置（213），所述旋动装置连接所述驱动装置（220）。

5.根据权利要求3所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述压板（211）上设置有下限位部（215）和/或与下限位部（215）相对的上限位部（216）。

6.根据权利要求3所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述驱动装置（220）包括两个不同大小的气缸。

7.根据权利要求1所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述旋转驱动机构（320）可沿废渣收集斗（400）的长度方向往复移动。

8.根据权利要求1所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述第一开口（420）处设置有延伸到其覆盖区域内的软质遮挡物（600）。

9.根据权利要求1所述的自清洁打磨装置，其特征在于：所述第二开口（420）连接有吸尘装置（700）。

10.打磨方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1，工件放置治具带动其上的工件由抓取装置外侧移动至抓取装置正下方；

S2,移动装置驱动抓取装置下移，抓取装置将工件放置治具上的工件抓取并驱动工件自转180°，使工件的待打磨位置朝下；

S3,移动装置驱动抓取装置移动至废渣收集斗的第一开口上方后下移，使工件部分伸入到所述废渣收集斗中与打磨头接触；

S4,打磨装置的打磨头自转并在工件的两端之间移动进行打磨；

S5,打磨完成后，抓取装置驱动打磨好的工件自转180°，移动装置驱动抓取装置移动至工件放置在工件放置治具上；

S6,抓取装置解除对工件的固定；

S7,工件放置治具移动至抓取装置的外侧进行下料及上料；

S8，重复S1-S7。