[发明专利]一种6系铝合金的晶界腐蚀剂及晶粒度显示方法

权利要求书

1.一种6系铝合金的晶界腐蚀剂，其特征在于，所述晶界腐蚀剂为硫酸铜水溶液和碱金属氢氧化物水溶液混合制成的悬浮液；

所述硫酸铜水溶液与碱金属氢氧化物水溶液的体积比为1:1～4；

所述硫酸铜水溶液中硫酸铜的质量百分比为2％～10％；

所述碱金属氢氧化物水溶液中的碱金属氢氧化物为氢氧化钠和/或氢氧化钾，所述碱金属氢氧化物水溶液中氢氧化钠和/或氢氧化钾的总质量百分比为10％～20％。

2.根据权利要求1所述的晶界腐蚀剂，其特征在于，所述硫酸铜水溶液与碱金属氢氧化物水溶液的体积比为1:1.5。

3.根据权利要求1或2所述的晶界腐蚀剂，其特征在于，所述硫酸铜水溶液中硫酸铜的质量百分比为5％～10％。

4.根据权利要求3所述的晶界腐蚀剂，其特征在于，所述硫酸铜水溶液中硫酸铜的质量百分比为8％。

5.根据权利要求1或2所述的晶界腐蚀剂，其特征在于，所述碱金属氢氧化物水溶液中氢氧化钠和/或氢氧化钾的总质量百分比为15％。

6.一种6系铝合金的晶粒度显示方法，其特征在于，包括采用权利要求1-5中任意一项所述的晶界腐蚀剂对6系铝合金进行腐蚀，在腐蚀表面上完整地显示晶界。

7.根据权利要求6所述的晶粒度显示方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)对6系铝合金的样品进行研磨，对研磨后的表面进行抛光，得到抛光表面；

2)将所述抛光表面浸入晶界腐蚀剂中进行腐蚀，得到腐蚀表面；

3)去除所述腐蚀表面的腐蚀产物；

4)用无水乙醇冲洗腐蚀表面，吹干。

8.根据权利要求7所述的晶粒度显示方法，其特征在于，所述的步骤2)中，所述抛光表面浸入晶界腐蚀剂中，腐蚀1～20分钟后取出。

9.根据权利要求8所述的晶粒度显示方法，其特征在于，所述抛光表面浸入晶界腐蚀剂中，腐蚀1～15分钟后取出。

10.根据权利要求9所述的晶粒度显示方法，其特征在于，所述抛光表面浸入晶界腐蚀剂中，腐蚀13分钟后取出。

11.根据权利要求8所述的晶粒度显示方法，其特征在于，所述抛光表面倾斜的浸入晶界腐蚀剂中。

12.根据权利要求8所述的晶粒度显示方法，其特征在于，控制腐蚀过程中，所述晶界腐蚀剂的温度为18～28℃。

13.根据权利要求12所述的晶粒度显示方法，其特征在于，控制腐蚀过程中，所述晶界腐蚀剂的温度为23℃。

14.根据权利要求12所述的晶粒度显示方法，其特征在于，通过水浴法控制所述晶界腐蚀剂的温度。

15.根据权利要求7-14中任意一项所述的晶粒度显示方法，其特征在于，所述的步骤3)中，用清水冲洗腐蚀表面，将冲洗后的腐蚀表面浸入10％～35％的硝酸溶液中，浸蚀3～8s后取出。

16.根据权利要求15所述的晶粒度显示方法，其特征在于，冲洗后的腐蚀表面浸入30％的硝酸溶液中，浸蚀5s后取出。

17.根据权利要求15所述的晶粒度显示方法，其特征在于，取出后用酒精擦拭腐蚀表面。