[发明专利]离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置

说明书

本发明离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，属于大视场循环肿瘤细胞显微成像技术领域，特别是涉及到一种杂散光抑制装置；包括光学组件支撑结构，光学组件支撑结构上设置有主镜镜框、主次镜遮光罩、次镜组件、光源遮光罩和焦面遮光罩，主镜镜框中设置有主三一体镜，另外光源遮光罩与主次镜遮光罩的上部相对应；光学组件支撑结构上还设置有平移台，平移台上设置有CCD组件，CCD组件的正前方设置有焦面组件，与焦面组件相对应的位置设置有焦面遮光罩，焦面遮光罩与主次镜遮光罩的下部相对应；主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩均为开口的中空结构。本发明可以有效抑制场内外及二次杂光，有效提升了光学系统成像质量。

技术领域

本发明属于大视场循环肿瘤细胞显微成像技术领域，尤其涉及在离轴三反光学系统全路径遮光系统，有效抑制杂散光对成像系统的影响，提升离轴三反显微成像系统的像面质量。

背景技术

离轴三反光学系统(TMA)具有无色差、光路可折叠、结构紧凑、无中心遮拦、高分辨和大视场、能够很好地校正和平衡系统的像差等特点广泛应用于空间遥感、环境监测、投影光刻和生物医学等领域，为了提升光学系统的成像质量，需要对进入光学系统的杂散光进行有效地抑制。

杂散光是指到达像面的非成像光束，对光学系统而言杂散光就相当于系统的噪声，直接影响着光学系统的成像质量，导致像面对比度下降和调制传递函数下降，严重时目标像会被杂光淹没，致使系统失效，消除杂光的目的就是减少到达像面的杂光。进入光学系统的杂散光一般分为三种:1.系统外的一次杂光，不经过主次镜直接进入像面的杂散光；2.系统内二次反射杂光，视场内的成像光束不按正常光路传输的杂散光；3.视场内的光线，由于光学元件表面加工缺陷产生的杂散光。

目前国内外常用的消杂光方法主要有以下几种：1.用组合光阑抑制杂散光，即通过孔径光阑、视场光阑的组合抑制系统中的杂散辐射。2.遮光罩和挡光环消杂光结构。3.喷涂消杂光涂层。这种杂光抑制系统可以有效地抑制一次杂光，但对焦平面处的二次杂光不能进行有效地抑制。这种抑制杂光系统对于结构简单的成像系统来说，可以起到很好的抑制作用，但是对于离轴三反显微成像系统来说，由于其支撑结构复杂，不能很好地抑制杂散光进入像面。

为了解决现有技术中存在的问题，提供了一种离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，该系统弥补了现有杂散光抑制系统的不足，提供了一种能够有效抑制杂散光，尤其是二次杂散光全路径杂散光抑制系统。

发明内容

本发明目的在于提供了一种离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，以解决现有杂散光抑制系统不足以很好地抑制焦平面及二次杂光等的技术问题。

为实现上述目的，本发明的离轴三反光学系统用全路径杂散光抑制装置的具体技术方案如下：

离轴三反显微成像光学系统全路径杂散光抑制装置，包括光学组件支撑结构，所述光学组件支撑结构的一端面设置有主镜镜框，所述光学组件支撑结构上还设置有主次镜遮光罩、次镜组件、光源遮光罩和焦面遮光罩，所述主镜镜框中设置有主三一体镜，所述次镜组件安装在光学组件支撑结构的横梁上，且主三一体镜与次镜组件共同满足离轴三反显微成像光学系统成像要求，所述光源遮光罩与主次镜遮光罩的上部相对应；

所述光学组件支撑结构上还设置有平移台，所述平移台上设置有CCD组件，所述CCD组件的正前方设置有焦面组件，与所述焦面组件相对应的位置设置有焦面遮光罩，所述焦面遮光罩与所述主次镜遮光罩的下部相对应；所述主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩均为开口的中空结构。

进一步，所述主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩均为喇叭状结构。

进一步，所述主次镜遮光罩、光源遮光罩和焦面遮光罩的内外表面喷黑色消光漆。

进一步，所述主次镜遮光罩包括依次焊接的第一侧面挡光板、第二侧面挡光板、第三侧面挡光板和第四侧面挡光板。