[发明专利]一种真空腔体泄漏自动侦测方法

权利要求书

1.一种真空腔体泄漏自动侦测方法，其特征在于，具体如下：

(1)、将产品传送至溅镀腔体内，并将溅镀腔体内的真空值设定完成；

(2)、晶圆开始进行溅镀工艺，并记录溅镀过程数据；

(3)、晶圆溅镀过程中对电压值进行持续检测、判定；

(4)、溅镀工艺作业完成，将检测的溅镀数据进行存储。

2.根据权利要求1所述的一种真空腔体泄漏自动侦测方法，其特征在于，步骤(3)中的检测过程如下：

(3-1)、对晶圆溅镀过程中回馈电压值进行检测，并获取相应的数据；

(3-2)、将获取的数据传送至智能终端，并与智能终端内存储的数据进行对比；

(3-3)、根据对比结果来对溅镀工艺进行相应的操作：

若检测的电压值处于设定区域内，则溅镀工艺继续进行；

若检测的电压值处于设定区域以外，则控制溅镀工艺停止，进行排查、检修；

(3-4)、当排查检修完成后，重复步骤(3-1)即可。