[发明专利]载置台、基板处理装置以及载置台的组装方法

说明书

本发明提供载置台、基板处理装置以及载置台的组装方法。抑制盖构件相对于载置台主体的位置偏移，利用用于抑制该位置偏移的机构防止载置台主体热膨胀或者热收缩时该载置台主体产生破损。载置基板的载置台包括：载置台主体，该载置台主体在上表面载置基板；盖构件，其覆盖载置台主体的上表面的外缘部；以及位置偏移防止用构件，其设于载置台主体的上表面与盖构件的下表面之间，能够滚动或者滑动，在载置台主体的上表面形成有收容位置偏移防止用构件的主体侧凹部，在盖构件的下表面形成有收容被主体侧凹部收容的位置偏移防止用构件的盖侧凹部，主体侧凹部和盖侧凹部中的至少任一者形成为具有沿着载置台主体的径向的倾斜面的研钵状。

技术领域

本公开涉及载置台、基板处理装置以及载置台的组装方法。

背景技术

在专利文献1中，作为设于成膜装置的腔室内且载置半导体晶圆(以下称作“晶圆”)的载物台，公开有一种以在整个周向上覆盖该载物台的外缘部和该载物台的侧周面的方式设有盖构件的载物台。

专利文献1：日本特开2018－70906号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开所涉及的技术抑制盖构件的相对于载置台主体的位置偏移，另外，利用该用于抑制位置偏移的机构防止载置台主体的热膨胀或者热收缩时在该载置台主体产生破损。

用于解决问题的方案

本公开的一技术方案为一种用于载置基板的载置台，其中，该载置台包括：载置台主体，该载置台主体在上表面载置基板；盖构件，其覆盖所述载置台主体的上表面的外缘部；以及位置偏移防止用构件，其设于所述载置台主体的上表面与所述盖构件的下表面之间，能够滚动或者滑动，在所述载置台主体的上表面形成有收容所述位置偏移防止用构件的主体侧凹部，在所述盖构件的下表面形成有收容被所述主体侧凹部收容的所述位置偏移防止用构件的盖侧凹部，所述主体侧凹部和所述盖侧凹部中的至少任一者形成为具有沿着所述载置台主体的径向的倾斜面的研钵状。

发明的效果

根据本公开，能够抑制盖构件的相对于载置台主体的位置偏移，另外，能够利用该用于抑制位置偏移的机构防止载置台主体的热膨胀或者热收缩时在该载置台主体产生破损。

附图说明

图1是用于说明本公开所涉及的课题的图。

图2是示意性表示作为第1实施方式所涉及的基板处理装置的成膜装置的结构的概略的说明图。

图3是表示图2的成膜装置的内部的状态的局部放大剖视图。

图4是载置台的局部放大剖视图。

图5是载置台主体的俯视图。

图6是盖构件的仰视图。

图7是盖侧凹部的平面图。

图8是用于说明位置偏移防止用构件的另一例子的图。

图9是用于说明位置偏移防止用构件的另一例子的图。

图10是用于说明载置台主体的另一例子的图。

图11是示意性表示作为第2实施方式所涉及的基板处理装置的成膜装置的结构的概略的说明图。

图12是图11的销支承构件的俯视图。

图13是图11的盖构件的仰视图。

图14是图11的盖构件所具有的卡定部的侧视图。

图15是用于说明第2实施方式的升降销的另一例子的图。