[发明专利]高陡岩石坡面复绿结构及其施工方法在审

专利信息
申请号: 202010597792.0 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111657012A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 项洋;肖冬顺;马明;曾立新;周治刚;张辉;杜相会;丁晔;闵文;黄炎普;王昶宇;黄帆;夏骏;任永佳;袁海萍;苏传洋;陈世敏;李理;朱文明;王黄荣;赵冰波;杨晓峰 申请(专利权)人: 长江岩土工程总公司(武汉)
主分类号: A01G9/029 分类号: A01G9/029;A01G9/02;A01G9/12;A01G17/10;A01G24/10;A01G24/22;A01G24/20;A01G25/00;E02D17/20;E02D5/76
代理公司: 武汉宇晨专利事务所 42001 代理人: 狄宗禄
地址: 430010 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 岩石 坡面复绿 结构 及其 施工 方法
【说明书】:

发明公开了一种高陡岩石坡面复绿结构,涉及环境治理施工领域。它包括岩壁和植物生长基质袋;植物生长基质袋位于岩壁孔内,植物生长基质袋包括生长基质袋、生长基质和植物;岩壁岩面上有养护系统。本发明集合多种工艺,造价较低且能实现岩壁岩面长期复绿的目标。本发明还公开了这种高陡岩石坡面复绿结构的施工方法。

技术领域

本发明涉及环境治理施工领域,更具体地说它是一种高陡岩石坡面复绿结构。本发明还公开了这种高陡岩石坡面复绿结构的施工方法。

背景技术

水利水电工程、环境治理工程、矿山工程、建筑工程、市政工程中经常遇到高陡岩面(人工开采造成或自然形成),这些裸露边坡可视范围内的地形地貌景观造成了严重的破坏,而该类岩石体具有岩石裸露面积大、岩壁坚硬、高陡、光滑、土壤及水资源匮乏等特点,普遍存在基质稀缺、自然环境恶劣、施工难度大、植物攀爬难度大等难点,现有复绿方法均难以达到理想效果。

无论采用何种植物进行采石场复绿,都需要满足植物生长所必须的环境条件,即土壤、水分、光照和适宜的温度等。如前文所述,矿区土壤及水资源匮乏,岩壁上根本不存在土壤,也无法涵养植物生长所需的水分。更为重要的是,大面积裸露的岩壁,在夏季受到烈日的曝晒后温度极高,据现场实测,最高温可达到60-70℃,若直接在岩壁上种植植物,不仅会使种植基质中水分快速蒸发,还会灼伤植物细嫩的枝叶,导致植株干枯死亡。

因此,提出一种高陡岩石坡面复绿结构是十分必要的。

发明内容

本发明的第一目的是为了克服上述背景技术的不足之处,而提供一种高陡岩石坡面复绿结构。

本发明的第二目的是为了提供这种高陡岩石坡面复绿结构的施工方法。

为了实现上述第一目的,本发明的技术方案为:高陡岩石坡面复绿结构,其特征在于:包括岩壁和植物生长基质袋;所述岩壁岩面上开有多个岩壁孔;所述植物生长基质袋位于岩壁孔内,植物生长基质袋包括生长基质袋、位于生长基质袋内的生长基质和位于生长基质袋内植物;所述岩壁岩面上有养护系统。

在上述技术方案中,所述生长基质包括植物种子、种植土、草纤维、粘合剂、土壤改良剂、生物菌肥、缓释肥和保水剂。

在上述技术方案中,所述岩壁岩面上有多个锚钉,锚钉上挂有金属网。

在上述技术方案中,所述岩壁孔的形状可为圆形、方形、多边形,岩壁孔可采取单孔、双孔和多孔的形式。

在上述技术方案中,所述岩壁孔孔深为0.8-1.2m,孔内充填30cm的肥料做底;所述生长基质袋为可降解一次性无纺布免脱袋。

在上述技术方案中,所述生长基质的指标为有机质≥32.0%,腐殖质≥10.0%,氮、磷、钾≥4.0%,水分≥30.0%,吸水倍率≥6.0,水稳性指数≥60.0%,pH值5.5-7.0,细度<5mm的≥75.0%。

在上述技术方案中,所述生长基质中的种植土选择工程地原有地表种植土粉碎,风干过8mm筛;草纤维就地取秸秆、树枝加工成10-15mm长;生物菌肥和缓释肥中N:P:K为6:36:6,微生物菌剂的有效活菌数大于 108/g。

在上述技术方案中,当岩壁孔为双孔时,岩壁孔的上孔内填充含有爬藤类植物的植物生长基质袋,下孔内填充含有悬挂类植物的植物生长基质袋;

当岩壁孔为多孔时,岩壁孔的上孔内填充含有爬藤类植物的植物生长基质袋,中孔内填充含有灌木的植物生长基质袋,下孔内填充含有悬挂类植物的植物生长基质袋。

为了实现上述第二目的,本发明的技术方案为:所述高陡岩石坡面复绿结构的施工方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1,预制植物生长基质袋:在生长基质袋中灌入生长基质,并插入植物;

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