[发明专利]一种薄膜的生成方法

权利要求书

1.一种薄膜的生成方法，其特征在于，包括：

在非真空环境下，将反应物前驱体沉积到待沉积表面，其中，所述待沉积表面包括应用于光伏组件的玻璃板的主表面或者电池片的主表面；

使所述反应物前驱体发生反应而在待沉积表面形成薄膜，其中，所述薄膜为阻挡层，所述薄膜包括金属氧化物和/或氧化硅。

2.根据权利要求1所述的薄膜的生成方法，其特征在于，所述将反应物前驱体沉积到待沉积表面，包括：

使所述反应物前驱体雾化，并将雾化后的反应物前驱体沉积吸附到所述待沉积表面。

3.根据权利要求1所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述待沉积表面进一步包括：所述电池片上的减反射层。

4.根据权利要求3所述的薄膜的生成方法，其特征在于，进一步包括：

调节所述减反射层的厚度，以实现所述减反射层最优光学减反射功能。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述反应物前驱体包括：溶剂、金属有机化合物和/或硅的有机化合物。

6.根据权利要求5所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

控制所述待沉积表面升温，使所述溶剂挥发，且所述金属有机化合物和/或所述硅的有机化合物分解并形成具有金属氧化物和/或氧化硅的薄膜的阻挡层。

7.根据权利要求5所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述金属有机化合物中金属价态一般不小于+2价。

8.根据权利要求5所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述金属有机化合物包括：铝的有机化合物、锌的有机化合物、锆的有机化合物、钛的有机化合物和锡的有机化合物中的任意一种或多种。

9.根据权利要求2或6所述的薄膜的生成方法，其特征在于，所述雾化的步骤，包括：

采用超声波将所述反应物前驱体雾化成雾化液滴。

10.根据权利要求9所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述超声波的频率为20-10⁶KHz。

11.根据权利要求9所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述雾化液滴的流量为2×10^-4-10L/min。

12.根据权利要求6所述的薄膜的生成方法，其特征在于，其特征在于，

所述待沉积表面升温的温度为100-600度(℃)。

13.根据权利要求2所述的薄膜的生成方法，其特征在于，其特征在于，

沉积吸附的时长为0.5-40min。

14.根据权利要求9所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

所述反应物前驱体包括的所述金属有机物和/或硅的有机物的浓度、雾化液滴的流量以及沉积的时长分别与薄膜的厚度成正比关系。

15.根据权利要求1至4、6至14中任一所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

针对所述待沉积表面为玻璃板的主表面，

将玻璃对应表面放置于喷雾热解沉积的腔体，反应物前驱体经喷雾而沉积至主表面上，然后使所述反应物前驱体热解后形成薄膜。

16.根据权利要求1至4、6至14中任一所述的薄膜的生成方法，其特征在于，

针对所述待沉积表面为玻璃板的主表面，

将喷雾热解装备设置在浮法玻璃的生产线上，在浮法玻璃生产时，在冷却阶段的一个温度区域设置喷雾装置；

直接在热的玻璃表面喷涂所述反应前驱体，利用玻璃熔制的余温实现裂解反应，得到具有薄膜的玻璃。