[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：柔性衬底基板、第一金属层、至少一层无机材料层和至少一层有机材料层，所述柔性衬底基板包括发光区、绑定区和连接在所述发光区和所述绑定区之间的弯折区，所述弯折区包括走线区和非走线区，所述第一金属层包括位于所述走线区的沿第一方向延伸的多条金属走线；

所述至少一层有机材料层中的第一有机材料层的位于所述非走线区的第一部分的厚度小于位于所述走线区的第二部分的厚度，所述第一有机材料层为所述至少一层有机材料层中的远离所述柔性衬底基板的一层；

和所述至少一层无机材料层中的至少部分无机材料层位于所述非走线区的部分被去除；

所述至少一层无机材料层包括：第一无机材料层、第二无机材料层和第三无机材料层，所述至少一层有机材料层包括：第一有机材料层和第二有机材料层；

所述弯折区内：

所述第一无机材料层位于所述金属走线靠近所述柔性衬底基板的一侧；

所述第二有机材料层位于所述金属走线的远离所述柔性衬底基板的一侧；

所述第二无机材料层位于所述第二有机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧；

所述第三无机材料层位于所述金属走线的远离所述柔性衬底基板的一侧，且包覆所述金属走线的远离所述柔性衬底基板的一侧表面和侧表面；

所述第一有机材料层位于所述第二无机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧；

所述第一有机材料层的第一部分的厚度为所述第二部分的厚度的一半；

所述第一部分形成为凹槽，所述凹槽位于相邻的所述金属走线之间，且延伸方向与所述金属走线的延伸方向相同；

全部所述无机材料层位于所述非走线区的部分均被去除。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述弯折区内：

所述第一无机材料层位于所述金属走线的靠近所述柔性衬底基板的一侧，所述金属走线在所述柔性衬底基板上的正投影位于所述第一无机材料层在所述柔性衬底基板上的正投影区域内；

所述第二有机材料层位于所述第三无机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧；

所述第一有机材料层位于所述第二有机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧。

3.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-2任一项所述的阵列基板。

4.一种阵列基板的制作方法，应用于权利要求1-2任一项所述的阵列基板，其特征在于，包括：

提供刚性衬底基板；

在所述刚性衬底基板上形成柔性衬底基板，所述柔性衬底基板包括发光区、绑定区和连接在所述发光区和所述绑定区之间的弯折区，所述弯折区包括走线区和非走线区；

在所述柔性衬底基板上形成第一金属层、至少一层无机材料层和至少一层有机材料层，所述第一金属层包括位于所述走线区的沿第一方向延伸的多条金属走线；

其中：

所述至少一层有机材料层中的第一有机材料层的位于所述非走线区的第一部分的厚度小于位于所述走线区的第二部分的厚度，所述第一有机材料层为所述至少一层有机材料层中的远离所述柔性衬底基板的一层；

和所述至少一层无机材料层中的至少部分无机材料层位于所述非走线区的部分被去除。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，形成第一有机材料层包括：

形成有机材料膜层；

采用半色调掩膜板或者灰色调掩膜板，对所述有机材料膜层进行构图，形成第一有机材料层的图形，所述第一有机材料层包括位于所述非走线区的第一部分和位于所述走线区的第二部分。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述至少一层无机材料层包括第一无机材料层、第三无机材料层和第二无机材料层；

所述在所述柔性衬底基板上形成第一金属层、至少一层无机材料层和至少一层有机材料层包括：

形成第一无机材料层，所述第一无机材料层包括：位于所述走线区的第一部分；

形成第一金属层，所述第一金属层位于所述第一无机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧，所述第一金属层包括位于所述走线区的沿所述第一方向延伸的多条金属走线，所述金属走线在所述柔性衬底基板上的正投影位于所述第一无机材料层的第一部分在所述柔性衬底基板上的正投影区域内；

形成第三无机材料层，所述第三无机材料层位于所述金属走线的远离所述柔性衬底基板的一侧，所述第三无机材料层包括位于所述走线区的第一部分，所述第三无机材料层的第一部分包覆所述金属走线的远离所述柔性衬底基板的一侧表面和侧表面；

形成第二有机材料层，所述第二有机材料层位于所述第三无机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧；

形成第一有机材料层，所述第一有机材料层位于所述第二有机材料层的远离所述柔性衬底基板的一侧。