[发明专利]一种添加剂雾化分散装置及其工作方式

说明书

本发明公开了一种添加剂雾化分散装置，包括雾化组件和净液罐，所述雾化组件同轴设置于所述净液罐的顶部，并与所述净液罐活动连接；所述雾化组件包括雾化壳体、喷淋组件、连接杆和旋转轮，所述雾化壳体底部中央设有双圆锥槽顶部相对连通结构的通孔，所述喷淋组件嵌设于所述通孔处，所述喷淋组件顶部侧方通过所述连接杆同所述旋转轮的轴心连接，所述旋转轮滑动设置于所述雾化壳体底部远离所述净液罐一侧的环形滑槽上。本发明通过设置雾化组件，利用喷淋组件双锥形旋转式结构，使含有添加剂的稀释液能够均匀喷淋，并完整覆盖净液罐的液面，实现了添加剂的均匀添加，提高了后续所制备电解液的均匀性。

技术领域

本发明涉及铜箔制备工艺装置，特别是一种添加剂雾化分散装置及其工作方式。

背景技术

目前，电解铜箔方法为最常用的制备宽幅铜箔的方法，该工艺方法主要先将铜原料用酸溶解后形成含铜电解液，然后将铜电解液经过滤除杂后，在电解槽中进行电解，最终于阴极辊上沉积得到铜箔。在上述电解铜箔的工艺过程之前，需要将电解所需的铜料在溶铜罐中溶解，然后经过多次过滤处理后得到较为纯净的电解液并导入净液罐中，这时常需要向净液罐中定量添加一些辅助性的药品，但由于净液罐往往体积较大，而所添加剂的加入量相对较少，使得所加入的添加剂难以均匀的分散于净液罐的溶液中，从而会对后续所制备电解液的均匀性产生较大影响，进而会影响电解铜箔的质量。故需要提出一种能够均匀分散添加剂的装置用于解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种添加剂雾化分散装置及其工作方式，用于解决现有技术中难以将添加剂均匀分散于净液罐溶液中的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种添加剂雾化分散装置，包括雾化组件和净液罐，雾化组件同轴设置于净液罐的顶部，并与净液罐活动连接；雾化组件包括雾化壳体、喷淋组件、连接杆和旋转轮，雾化壳体底部中央设有双圆锥槽顶部相对连通结构的通孔，喷淋组件嵌设于通孔处，喷淋组件顶部侧方通过连接杆同旋转轮的轴心连接，旋转轮滑动设置于雾化壳体底部远离净液罐一侧的环形滑槽上。

其中，喷淋组件包括雾化罐和雾化喷头；雾化罐为锥形结构容器，且锥形顶部向下倾斜设置与雾化喷头连通，雾化罐的锥形底部倾斜侧方通过连接杆同旋转轮的轴心连接，雾化罐的锥形底部竖直顶端设有进气口和进液口。

其中，通孔的双锥形槽连通结构包括上圆锥槽和下圆锥槽，上圆锥槽和下圆锥槽之间设有O型圈；雾化罐锥形结构的倾斜母线与上圆锥槽的母线平行抵接，雾化罐锥形结构的竖直母线与净液罐的轴线重合；雾化喷头的雾化锥角小于或等于下圆锥槽锥角的一半。

其中，添加剂雾化分散装置还包括稀释罐、出液阀、输送泵和增压泵；稀释罐经输送泵后与雾化罐的进液口通过管道连通，出液阀设置于稀释罐与输送泵之间的管道处，增压泵通过管道与雾化罐的进气口连通。

其中，净液罐顶部侧壁设置有进液管，净液罐底部侧壁设置有出液管，进液管与出液管均与净液罐的内腔连通。

为解决上述技术问题，本发明还提供了一种添加剂雾化分散装置的工作方式，其步骤包括：将初始电解液导入净液罐中，向稀释罐中加入添加剂和溶剂，混合均匀后配置成添加剂稀释液；通过输送泵将添加剂稀释液导送至雾化罐中，并驱动旋转轮沿环形的滑槽进行旋转运动，完成添加剂的均匀添加，形成混合有添加剂的电解液。

优选的，添加剂和溶剂的配比为1:(40～60)。本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供一种添加剂雾化分散装置及其工作方式，通过设置雾化组件，利用喷淋组件双锥形旋转式结构，使含有添加剂的稀释液能够均匀喷淋，并完整覆盖净液罐的液面，实现了添加剂的均匀添加，提高了后续所制备电解液的均匀性。

附图说明

图1是本发明中添加剂雾化分散装置一实施方式的结构示意图；

图2是本发明中添加剂雾化分散装置一实施方式中雾化壳体的通孔处结构示意图；