[发明专利]一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 202010596206.0 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111733380B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 李典虹;苏长恒 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜版 组件 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种掩膜版组件,其特征在于,所述掩膜版组件包括:

框架;

支撑网,所述支撑网固定连接在所述框架上;所述支撑网包括多个第一支撑条、多个第二支撑条和多个第三支撑条,所述第一支撑条、所述第三支撑条分别与所述第二支撑条相互交叉设置而构成网格镂空结构;

至少两块掩膜版,由所述支撑网支撑并固定连接在所述框架上;以及

至少一个遮掩条,所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上,用于使所述框架产生预定的弹性形变;通过替换成不同拉力的所述遮掩条来调整所述框架的预定的弹性形变量,进而调整所述框架对掩膜版的拉力;

其中,所述遮掩条与所述第一支撑条间隔设置;所述遮掩条设在两块相邻所述掩膜版之间的间隙处;

每个所述遮掩条的下方设置两条所述第三支撑条,每条所述遮掩条所在的间隙处由所述遮掩条和所述第三支撑条共同遮挡,其他相邻两块所述掩膜版之间的间隙由所述第一支撑条进行遮挡;所述遮掩条下方设置的所述第三支撑条的宽度小于未设置在所述遮掩条处的第一支撑条的宽度;

所述第二支撑条设置在所述掩膜版的无效掩膜区,用于支撑所述掩膜版。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件,其特征在于,所述框架呈中空的方形环结构。

3.根据权利要求1所述的掩膜版组件,其特征在于,所述框架上设有凹槽,用于将所述支撑网嵌入固定连接在所述框架上。

4.根据权利要求1所述的掩膜版组件,其特征在于,所述支撑网一体成型。

5.根据权利要求1所述的掩膜版组件,其特征在于,所述遮掩条的数量为三个。

6.一种权利要求1所述掩膜版组件的张网方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将支撑网固定连接在框架上;所述支撑网包括多个第一支撑条、多个第二支撑条和多个第三支撑条,所述第一支撑条、所述第三支撑条分别与所述第二支撑条相互交叉设置而构成网格镂空结构;

(2)将所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上,使所述框架产生预定的弹性形变,并使所述遮掩条与所述第一支撑条间隔设置,以及使每个所述遮掩条的下方具有两条所述第三支撑条;所述遮掩条下方设置的所述第三支撑条的宽度小于未设置在所述遮掩条处的第一支撑条的宽度;

(3)将至少两块掩膜版置于所述支撑网的上方使所述支撑网支撑所述掩膜版,并使所述遮掩条位于两块相邻的所述掩膜版之间的间隙处,定位好位置后将所述掩膜版的两端固定连接在所述框架上,并使每条所述遮掩条所在的间隙处由所述遮掩条和所述第三支撑条共同遮挡,以及使其他相邻两块所述掩膜版之间的间隙由所述第一支撑条进行遮挡,并且使所述第二支撑条位于所述掩膜版的无效掩膜区,以支撑所述掩膜版,从而获得预处理掩膜版组件;

(4)对所述预处理掩膜版组件进行镀膜像素位置精度的检测;以及

(5)根据检测结果将所述遮掩条替换成具有不同拉力的所述遮掩条,以调整所述框架的预定的弹性形变量,进而调整所述框架对掩膜版的拉力,从而获得具有较高镀膜像素位置精度的掩膜版组件。

7.根据权利要求6所述的张网方法,其特征在于,在步骤(5)中,所述调整的方式为将原拉力大小的遮掩条替换成另一拉力大小的遮掩条。

8.一种蒸镀装置,其特征在于,包括权利要求1所述掩膜版组件。

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