[发明专利]一种掩膜板清洗设备及掩膜板清洗方法

说明书

本申请公开了提供一种掩膜板清洗设备及掩膜板清洗方法，所述掩膜板清洗设备包括：载物台，用以承载待检测的掩膜板；定位模组，用以对所述掩膜板的各个区域进行定位检测；摄像模组，用以获取所述掩膜板当前区域的实时图像；控制器，电连接至所述摄像模组和所述定位模组；以及清洁机构，电连接至所述控制器，所述清洁机构用以执行控制器发出的控制指令，包括当所述控制器检测出所述掩膜板当前区域的实时图像与当前区域的预存图像之间存在差异时，所述清洁机构用以执行所述控制器发出的清洁当前区域的指令。本申请可以有效提高蒸镀图案的良率，并防止设备频繁宕机、材料被空蒸的技术问题。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板清洗设备及掩膜板清洗方法。

背景技术

在OLED基板蒸镀的过程中，采用掩膜板在一基板上掩膜刻蚀形成特定图案的膜层。具体的，掩膜板具有设定的图案，其包括透光区和遮光区。进行曝光时，光线从掩膜板图案之间的空隙中透过，在透光区对应基板的位置形成图形区域，在遮光区对应基板的位置可以用做封装胶封装基片及邦定驱动芯片等。由此可见，掩模板上的图案精度决定着膜层后续刻蚀出的图案精度。

在实际的生产环境中，如果直接采用掩膜板对基板进行蒸镀的话，可能会有小异物颗粒(particle)掉落附着在掩膜板上，当异物颗粒遮挡了图案之间的空隙时，即落入掩膜板的透光区(Mask rough hole)，就会影响曝光光线透过，进而影响膜层上对应位置的图案，出现重复性(Repeat)不良。如果工作人员不能及时检测出掩膜板上的异物，就会使掩膜板的不良影响到多块待曝光的基板，从掩膜曝光工艺到基板的检测工艺之间可能会距离时间(tact time)较长，这段时间内将产生大量不良产品。另外，当掩膜板的透光区(Maskrough hole)存在异物颗粒时，用户无法及时发现，还会导致蚀刻设备(EV设备)因与掩膜板的对位不良，导致EV设备频繁宕机，且设备中的蒸镀材料被空蒸，从而造成显示基板蒸镀不良的现象。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种掩膜板清洗设备及掩膜板清洗方法，能够对掩膜板表面或者开口区的异物颗粒进行检测，以解决现有掩膜板存在异物颗粒时降低蒸镀图案的良率，甚至容易导致设备频繁宕机、且导致设备中的材料被空蒸的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种掩膜板清洗设备，包括：载物台，用以承载待检测的掩膜板；定位模组，用以对所述掩膜板的各个区域进行定位检测；摄像模组，用以获取所述掩膜板当前区域的实时图像；控制器，电连接至所述摄像模组和所述定位模组；以及清洁机构，电连接至所述控制器，所述清洁机构用以执行控制器发出的控制指令，包括当所述控制器检测出所述掩膜板当前区域的实时图像与当前区域的预存图像之间存在差异时，所述清洁机构用以执行所述控制器发出的清洁当前区域的指令。

进一步地，所述的掩膜板清洗设备，还包括：第一移动机构，所述定位模组和摄像模组分别设于所述第一移动机构上；所述第一移动机构包括支撑装置、第一移位装置以及第二移位装置，所述第一移位装置和所述第二移位装置交错设置于所述支撑装置上；其中，所述第一移位装置用以移动所述定位模组和所述摄像模组在第一方向上运动，所述定位模组获取所述掩膜板当前区域的在第一方向上的坐标，摄像模组获取所述掩膜板当前区域的在第一方向上的实时图像；所述第二移位装置用以移动所述定位模组和摄像模组在第二方向上运动，所述定位模组获取所述掩膜板当前区域的在第二方向上的坐标，摄像模组获取所述掩膜板当前区域的在第二方向上的实时图像。

进一步地，所述定位模组包括CCD相机，所述摄像模组包括摄像头。

进一步地，所述的掩膜板清洗设备，还包括：传动机构，设于所述载物台下方，用以传送被放置于所述载物台的所述掩膜板；处理器，连接至所述控制器，用以分析判断所述掩膜板当前区域的实时图像与当前区域的预存图像之间是否存在差异。