[发明专利]显示装置有效

专利信息
申请号: 202010587322.6 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN111668277B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 张国峰 申请(专利权)人: 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;G06F3/041
代理公司: 北京允天律师事务所 11697 代理人: 王荣
地址: 430040 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括:

阵列基板,所述阵列基板具有衬底基板以及位于所述衬底基板上的薄膜晶体管;

设置在所述阵列基板一侧的发光层,所述发光层包括多个像素单元,所述像素单元与所述薄膜晶体管连接;

设置在所述发光层远离所述阵列基板一侧的滤光层;

设置在所述像素单元远离所述阵列基板一侧的触控电极,所述触控电极与所述像素单元不交叠;

至少部分所述触控电极位于所述滤光层远离所述发光层的一侧;所述触控电极远离所述发光层的一侧设置有遮蔽结构,用于降低所述触控电极的可见性;

所述遮蔽结构包括第一微透镜和位于所述第一微透镜远离所述阵列基板一侧的保护层,所述第一微透镜与所述保护层的交界面为弧形,所述弧形朝向所述保护层凸起,所述保护层的折射率小于所述微透镜的折射率;

或,所述遮蔽结构包括多个柱体,所述柱体位于所述触控电极远离所述发光层的一侧,且相邻所述柱体之间具有间隙;所述滤光层远离所述发光层的一侧具有保护层,所述柱体位于所述保护层内,所述柱体沿平行于所述阵列基板所在平面排布,所述柱体的延伸方向垂直于所述阵列基板。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述遮蔽结构为不透光的遮光层,所述遮光层完全覆盖位于所述滤光层远离所述发光层一侧的所述触控电极,且与所述像素单元不交叠。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述遮蔽结构为透光的减反膜,覆盖所述触控电极。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述柱体为无机材料,所述保护层为有机材料。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述滤光层包括黑色矩阵,所述黑色矩阵具有与所述像素单元一一对应的开口,所述开口用于露出所对应的所述像素单元;至少部分位于所述开口内的滤色器;所述黑色矩阵与所述像素单元不交叠。

6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述触控电极为自电容式触控电极,所述触控电极位于同一金属层;

所述触控电极位于所述黑色矩阵远离所述发光层的一侧;

或,所述发光层与所述滤光层之间具有封装层,所述触控电极位于封装层表面,且完全位于所述黑色矩阵内。

7.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述触控电极为互电容式触控电极,所述触控电极包括:位于第一导电层的触控电极线以及位于第二导电层的跨桥线,所述第二导电层位于所述第一导电层远离所述发光层的一侧,所述跨桥线与所述触控电极线通过通孔连接;

其中,

所述触控电极线位于所述黑色矩阵远离所述发光层的一侧,所述触控电极线与所述跨桥线之间具有绝缘介质层;

或,所述发光层与所述滤光层之间具有封装层,所述触控电极线位于所述封装层表面,且位于所述黑色矩阵内,所述跨桥线位于所述黑色矩阵远离所述发光层的一侧。

8.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述滤色器完全位于所述黑色矩阵对应所述像素单元的开口内。

9.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述滤色器包括:第一部分,位于所述黑色矩阵对应所述像素单元的开口内;第二部分,延伸至所述开口的外部;

其中,

所述触控电极完全位于所述第二部分远离所述发光层的一侧;

或,所述像素单元与所述滤光层之间具有封装层,所述触控电极包括:位于第一导电层的触控电极线以及位于第二导电层的跨桥线,所述跨桥线与所述触控电极线通过通孔连接,所述触控电极线位于所述封装层与所述黑色矩阵之间,所述跨桥线位于所述黑色矩阵远离所述触控电极线的一侧,至少复用所述黑色矩阵作为所述触控电极线与所述跨桥线之间的绝缘介质层。

10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,所述跨桥线位于所述第二部分内,或,所述跨桥线位于所述第二部分远离所述黑色矩阵的一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北长江新型显示产业创新中心有限公司,未经湖北长江新型显示产业创新中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010587322.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top