[发明专利]一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法

权利要求书

1.一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述银离子氨基酸保湿清爽洁面膏由以下重量份的组分组成：氨基酸18～30份、阴离子表面活性剂2～10份、乳化剂1～5份、辅料1～5份、余量为水。

2.根据权利要求1所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述银离子氨基酸保湿清爽洁面膏由以下重量份的组分组成：氨基酸20～28份、阴离子表面活性剂3～8份、乳化剂2～4.5份、辅料2～5份、余量为水。

3.根据权利要求2所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述阴离子表面活性剂为椰油酰甘氨酸钾。

4.根据权利要求2所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述乳化剂为甘油硬脂酸酯、PEG-100硬脂酸酯和鲸蜡硬脂醇聚醚-25。

5.根据权利要求2所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述辅料成分包括悬浮稳定剂、肤感剂、保湿剂、植物抗敏剂、防腐剂和香精。

6.根据权利要求1～5任一项所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述银离子氨基酸保湿清爽洁面膏还包括银离子，所述银离子所述银离子的重量百分比为0.1％-0.5％。

7.根据权利要求1～6任一项所述的一种银离子氨基酸保湿清爽洁面膏及其制备方法，其特征在于：所述银离子氨基酸保湿清爽洁面膏的制备包括以下步骤：

步骤一、按上述比例称取氨基酸、阴离子表面活性剂、乳化剂和皮肤外用制剂中可以接受的辅料备用；

步骤二、将乳化锅加热至85℃，然后加入步骤一中所得的辅料并加入去离子水，搅拌均匀；

步骤三、将乳化锅温度降至80℃，然后将步骤一中所得的氨基酸、阴离子表面活性剂和乳化剂加入乳化锅中，搅拌40min，待原料完全溶解；

步骤四、将步骤三中所得的混合物通过冷水浴降温至35℃，即可得到银离子氨基酸保湿清爽洁面膏。