[发明专利]显示面板的制造方法及显示面板

说明书

本申请实施例公开了一种显示面板的制造方法及显示面板，该显示面板的制造方法通过提供一阵列基板；在所述阵列基板上形成阳极层；在所述阵列基板和所述阳极层上形成第一像素界定层，所述第一像素界定层包括暴露所述阳极层的像素开口；对所述第一像素界定层进行蚀刻，形成第二像素界定层；在所述像素开口区域内形成覆盖所述阳极层的发光层；在所述发光层上形成阴极层；形成覆盖所述阴极层、所述第二像素界定层和所述阵列基板的封装层。本方案可以简化像素界定层的制造工艺。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制造方法及显示面板。

背景技术

有机电致发光(Organic Lighting Emitting Diode，OLED)器件，因具有自发光，色彩丰富，响应速度快，视角广，重量轻，可做成柔性显示屏等优点而受到广泛关注。

然而，在OLED器件制作过程中，某些制程因繁琐而OLED器件的生产效率，甚至影响到产品的品质。比如像素界定层，传统像素界定层是通过一次曝光显影技术制作形成，该技术本身较为繁琐，且蚀刻过程容易对阳极层表面造成损坏。

发明内容

本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法及显示面板，可以简化像素界定层的制造工艺。

第一方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：

提供一阵列基板；

在所述阵列基板上形成阳极层；

在所述阵列基板和所述阳极层上形成第一像素界定层，所述第一像素界定层包括暴露所述阳极层的像素开口；

对所述第一像素界定层进行蚀刻，形成第二像素界定层；

在所述像素开口区域内形成覆盖所述阳极层的发光层；

在所述发光层上形成阴极层；

形成覆盖所述阴极层、所述第二像素界定层和所述阵列基板的封装层。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述在所述阵列基板和所述阳极层上形成第一像素界定层，所述第一像素界定层包括暴露所述阳极层的像素开口，包括：

提供一喷墨打印机；

通过调整所述喷墨打印机喷头的间距和喷墨量，在所述阵列基板和所述阳极层上形成具有暴露所述阳极层的像素开口的所述第一像素界定层。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述第一像素界定层还包括第一间隔体，所述对所述第一像素界定层进行蚀刻，形成第二像素界定层，包括：

将掩膜板放置在形成有第一像素界定层的阵列基板上，所述掩膜板上设置有与所述第一间隔体相对应的开口；

对所述第一像素界定层的第一间隔体进行蚀刻，形成所述第二像素界定层，所述第二像素界定层包括第二间隔体和暴露所述阳极层的像素开口。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述第一间隔体为半球体，所述第一间隔体远离所述阵列基板一侧的宽度小于所述第一间隔体靠近所述阵列基板一侧的宽度。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述开口的形状为圆形，所述开口的宽度与所述第一间隔体远离所述阵列基板一侧的宽度相同。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述第一间隔体的球顶位置的蚀刻量大于所述第一间隔体其他位置的蚀刻量。

在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述对所述第一像素界定层的第一间隔体进行蚀刻，形成所述第二像素界定层，包括：

通过调整对所述第一像素界定层的第一间隔体的蚀刻速率和时间，形成所述第二像素界定层。