[发明专利]一种仿生分块鬼成像方法及系统有效

专利信息
申请号: 202010575766.8 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111551955B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 曹杰;郝群;周栋;张开宇;崔焕 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01S17/89 分类号: G01S17/89;G01S7/481;G01S7/48;G06T3/40
代理公司: 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 邬晓楠
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 仿生 分块 成像 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种仿生分块鬼成像方法,其特征在于:包括如下步骤,

步骤一、初始化用于产生仿生散斑的参数和鬼成像采样的参数;

步骤二、根据步骤一设定的仿生散斑参数生成一组仿生散斑,通过仿生散斑采样获得更高的成像质量;

步骤三、通过对仿生散斑分块,采用更低分辨率的散斑能够降低鬼成像的采样次数;

步骤四、采用步骤三的分块仿生散斑对目标采样,得到每个分块的测量值;

步骤五、根据步骤三的分块仿生散斑和步骤四的测量值,进行图像重构;

步骤六、对步骤五的重构后的分块图像拼接,得到整幅重构图像,即实现兼顾成像效率和成像质量的仿生分块鬼成像;

步骤一实现方法为,

步骤1.1:初始化产生仿生散斑的参数;

设置图像分辨率X×X、分块数N、仿生散斑离散角度最大值Q、仿生散斑离散环数最大值K、以及仿生散斑内环半径r0;所述的分块数N为平方数;

步骤1.2:初始化鬼成像采样参数;

设置采样比为a,采样次数为A=X×X×a/N,A四舍五入取整;

步骤二实现方法为,

根据步骤一设定的仿生散斑参数,生成A张仿生散斑P,仿生散斑计算公式如式所示;

其中:rk代表散斑第k环的半径,(1+sin(π/Q))/(1-sin(π/Q))代表增大系数ε,θq是q扇区的度数;仿生散斑P是分辨率为X×X的图像;

步骤三实现方法为,

对仿生散斑P进行N等分,得到p1、p2、…、pN,每个pi为的矩阵;此处采用先行后列或者先列后行的方式对其进行拆分并编号,其中p1为1号散斑,pN为N号散斑;

在拆分完A个仿生散斑后,pi={pi1,pi2,...,piA}(i=1,2,…,N);

步骤四实现方法为,

将仿生散斑投射到待成像目标O进行采样,目标O与仿生散斑采取同样的方式区分为o1、o2、…oN

光源投射在待成像目标O上,探测器根据式得到测量值y1、y2、…yN,yi是编号为i所对应分块采样A次的测量值,yi={yi1,yi2,...,yiA}(i=1,2,…,N);

yi=∫∫pi(x,y)×oi(x,y)dxdy,(i=1,2...,N) (3)

步骤五实现方法为,

pi与yi为编号为i的散斑与其对应编号的测量值,采用重构算法对其进行计算得到重构图像oi',计算公式如式所示,oi'是分辨率为图像;

步骤六实现方法为,

按照步骤三中选用拆分散斑的方式,将oi'进行图像拼接得到整幅重构图像O',O'是分辨率为X×X的图像;所述拆分散斑的方式为先行后列或先列后行;

2.一种仿生分块鬼成像系统,用于实现如权利要求1所述的一种仿生分块鬼成像方法,其特征在于:包括光源(2)、准直光学系统(3)、分光器、空间光调制器(5)、接收光学系统(7)、面阵探测器(8);

光源(2)、准直光学系统(3)、分光器、空间光调制器(5)按顺序依次位于同一光路上;光源(2)、准直光学系统(3)和分光器用于产生照射到空间光调制器(5)的面阵光;光源(2)、准直光学系统(3)、分光器和空间光调制器(5)用于产生携带已知光场分布信息的散斑投射到待成像的目标(6)上;接收光学系统(7)和面阵探测器(8)完成目标(6)反射光总光强的采集;相关运算器将仿生散斑信息和面阵探测器(8)采集的信息进行重构运算以及分块图像拼接运算;

光源(2)发出一束光,经过准直光学系统(3)和分光器分束后照射至空间光调制器(5)表面,空间光调制器(5)根据步骤二计算生成的仿生散斑反射光束至目标(6),目标(6)反射光束根据步骤四通过接收光学系统(7)到面阵探测器(8),目标(6)反射光的总光强被面阵探测器(8)接收;在重复多次测量后,根据步骤五对仿生散斑信息和面阵探测器(8)采集的光强信息进行互相关运算后即得到目标(6)分块的重构图像,按照步骤六对步骤五重构后的分块图像拼接,得到整幅重构图像,即实现兼顾成像效率和成像质量的仿生分块鬼成像。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010575766.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top