[发明专利]光刻系统及其清洁方法

说明书

提供一种光刻系统及其清除方法。光刻系统包含光源产生器。光源产生器包含反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对，且安置在环绕反射镜的区域处。清洁方法包含：经由光源产生器的装载埠将液滴产生器移出光源产生器；经由相同装载埠将铲总成插入到光源产生器中；使用附接到铲总成的管道镜来辨识由液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置；使用铲总成来移除和收集沉积物；以及经由装载埠将铲总成与管道镜一起从光源产生器中撤出。

相关申请的交叉引用

本申请要求2019年7月29日提交的美国临时申请第62/880,046号的优先权益。上述专利申请的全部内容特此以引用的方式并入本文中且成为本说明书的一部分。

技术领域

本公开的实施例涉及一种光刻系统及其清洁方法。

背景技术

近年来，由于各种电子组件的集成密度的持续提高，半导体行业经历迅速发展。大多数情况下，集成密度的这种提高来自集成电路(integrated circuit，IC)的最小特征大小的持续减小，这允许将更多的较小组件集成到给定区域中。因此，IC的生产效率得以提高。

另一方面，此微缩化增加了IC的制造工艺的复杂度。举例来说，对执行较高解析度光刻工艺的需求提高。在光学投影光刻系统中，解析度(即，最小特征大小)受光绕射限制。根据瑞利(Rayleigh)方程式，最小特征大小与光源的波长成正比。因此，发展更短波长的光源的光刻系统对于IC的微缩化至关重要。

发明内容

在本公开的一态样中，提供一种光刻系统的清洁方法。光刻系统包括光源产生器。光源产生器包括反射镜、液滴产生器以及液滴捕集器。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对，且安置在环绕反射镜的区域处。光刻系统的清洁方法包括：经由光源产生器的端口将液滴产生器移出光源产生器；经由端口将铲总成插入到光源产生器中；使用附接到铲总成的管道镜来辨识由液滴产生器产生的液滴所形成的沉积物的位置；使用铲总成来移除和收集沉积物；以及经由端口将铲总成与管道镜一起从光源产生器中撤出。

在本公开的另一态样中，提供一种光刻系统。光刻系统包括光源产生器。光源产生器包括反射镜、液滴产生器、液滴捕集器、容器以及清洁设备。液滴产生器安置在反射镜的一侧，且配置成发射横越反射镜的反射侧的液滴。液滴捕集器安置在反射镜的另一侧，且配置成捕集从液滴产生器发射的液滴的至少一部分。容器覆盖反射镜的反射侧。由反射镜反射的光穿过容器的中心通道。清洁设备附接到容器的朝向反射镜的表面且邻近于液滴捕集器。清洁设经备配置成移除由液滴中未由液滴捕集器捕集到的一部分所形成的沉积物。

在本公开的又一态样中，提供一种光刻系统的清洁方法。光刻系统包括光源产生器。光源产生器包括反射镜、液滴产生器、液滴捕集器以及清洁设备。液滴产生器和液滴捕集器彼此面对，且安置在环绕反射镜的区域中。清洁设备邻近于液滴捕集器。光刻系统的清洁方法包括驱动清洁设备中的致动器以控制清洁设备中的沉积物移除器来移除液滴捕集器周围的沉积物。沉积物是由液滴产生器产生的液滴的一部分形成。

附图说明

在结合附图阅读时，根据以下详细描述最好地理解本公开的各个方面。应注意，根据行业中的标准惯例，各种特征未按比例绘制。实际上，为了论述清楚起见，可任意增大或减小各种特征的尺寸。

图1是根据本公开的一些实施例的光刻系统的示意图。

图2是根据本公开的一些实施例的光源产生器的分解图。

图3A是根据本公开的一些实施例的光刻系统的清洁方法的流程图。

图3B是在如图3A中所示的清洁工艺期间经由多个侧装载埠中的一个而将铲总成和管道镜插入到主框架中的示意图。

图3C是图3B中所示的铲总成和管道镜的放大图。