[发明专利]基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法

权利要求书

1.一种基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法，其特征在于：包括以下步骤，

1)将待测物置于由单个线阵相机以及多个光源组成的成像环境中，统计每个光源的曝光条件下待测物上所有的待测量边缘的清晰度；

2)根据每个待测量边缘的清晰度的最大值，选取待测量边缘获取清晰度最大值时的最佳组合的曝光条件；

3)利用线阵相机进行一次拍摄，采用分时曝光方式获取待测物在最佳组合的曝光条件下的多张图像，并在清晰度最大的图像中提取待测量边缘的边缘特征，获得待测量边缘的图像坐标；

4)根据待测量边缘的图像坐标和分辨率计算待测物的尺寸。

2.如权利要求1所述的基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法，其特征在于：所述的步骤1)中，待测量边缘的清晰度为D，D值等于边缘区域的灰度平均值与背景区域的灰度平均值之间的绝对差值；所述的D值越大，则边缘的成像效果越好。

3.如权利要求1所述的基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法，其特征在于：所述的步骤2)中，最佳组合的曝光条件的确定方式为，

A、在步骤1)统计的数据中，选取K组数据，K大于等于2且小于等于线阵相机支持的最大分时曝光数；

B、统计每个待测量边缘在这K组数据中清晰度的最大值Dmax1，Dmax2，...Dmaxn；

C、以所有待测量边缘的Dmax1，Dmax2，...Dmaxn中最小的值Dmin来衡量这K组数据的曝光效果，Dmin的值越大，则此K组数据的综合曝光效果越好，故当Dmin最大时为最佳组合的曝光条件。

4.如权利要求1所述的基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法，其特征在于：所述的步骤3)中，利用边缘提取算法计算出边缘点的图像坐标，并根据最小二乘法拟合出线段和圆，获取线段和圆的图像坐标。

5.如权利要求1所述的基于多图分时曝光的高精度2D尺寸测量方法，其特征在于：所述的步骤4)中，根据待测量边缘的图像坐标和分辨率通过公式

wx＝ix*h

wy＝iy*v

计算待测物的物理坐标，从而得到待测物的尺寸，其中，wx，wy为实际的物理坐标，ix,iy为图像坐标，h为图像的水平分辨率，v为图像的垂直分辨率。