[发明专利]一种独立自支撑人工纳米石墨膜的制备方法在审
| 申请号： | 202010566967.1 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111547716A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 王良;方晓;王纪乾 | 申请（专利权）人： | 天津单从新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 301800 天津市宝坻区钰华*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 独立 支撑 人工 纳米 石墨 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种独立自支撑人工纳米石墨膜的制备方法，其特征在于，所述人工纳米石墨膜的厚度为100~280nm；该方法至少包括：将氧化石墨烯和可石墨化高分子混合后，涂敷在一基底上，成膜后进行热处理： 1-10摄氏度每分钟升温到400-600度，并维持1-4小时； 1-10摄氏度真空下每分钟升温到700-1600摄氏度，并维持0.1-2h；1-20摄氏度每分钟升温到2000-2300摄氏度，维持2-4小时，然后1-20摄氏度每分钟升温到2800-3200摄氏度，维持0.5-2小时;所述基底表面具有一可挥发涂层，所述可挥发涂层是指在700-1600摄氏度下多晶可挥发或者分解的多晶纳米涂层，可挥发涂层的厚度为20 nm以下。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯和可石墨化高分子的质量比为1：0.5-10。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述可石墨化高分子包括聚酰亚胺、聚丙烯腈、沥青等。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述成膜方法为将氧化石墨烯和可石墨化高分子混合的混合溶液进行旋涂、刮涂或离心喷涂。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述多晶可挥发涂层为氧化硅、氧化锗、二硼化镁（850）、二硼化铝（1650）以及二维材料金属硫化物等。
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